[發明專利]微流體裝置

有效

• 申請號: 200980139442.1
• 申請日: 2009-10-01
• 公開（公告）號: CN102170971A
• 公開（公告）日: 2011-08-31
• 發明（設計）人: M·W·J·普林斯;P·J·范德扎格;R·C·登杜爾克
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: B01L3/00
• 分類號: B01L3/00;B01J19/00;C12M1/12
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

1.一種微流體裝置，包括：

多個腔室(3，4，5，6)，其適于執行化學、生化或物理過程；

連接所述多個腔室(3，4，5，6)的流動路徑(9)，其適于容納依次移動通過所述多個腔室的至少一個磁顆粒(7)；

所述多個腔室(3，4，5，6)由至少一個閥狀結構(10)分開，所述閥狀結構(10)適于讓所述至少一個磁顆粒(7)從所述多個腔室之一通過并到達所述多個腔室中的另一個；以及

至少一個延遲結構(11，111)，其適于延遲所述至少一個磁顆粒(7)沿所述流動路徑的移動。

2.根據權利要求1所述的微流體裝置，其中，所述延遲結構(11，111)適于通過施加磁場延遲所述至少一個磁顆粒(7)的移動。

3.根據權利要求1或2所述的微流體裝置，其中，所述延遲結構(11，111)適于以受控方式停止所述至少一個磁顆粒(7)的移動并再次可控地釋放所述至少一個磁顆粒(7)。

4.根據權利要求3所述的微流體裝置，其中，所述延遲結構(11，111)適于通過改變磁場執行停止和釋放。

5.根據權利要求1到4中的任一項所述的微流體裝置，其中，所述延遲結構(11，111)包括幾何結構(11，111)并適于通過施加磁場(H)使所述至少一個磁顆粒(7)克服所述幾何結構的阻擋移動。

6.根據權利要求1到5中的任一項所述的微流體裝置，其中，所述至少一個延遲結構(11，111)與所述閥狀結構(10)分開形成。

7.根據權利要求1到6中的任一項所述的微流體裝置，其中，閥狀結構(10)均提供在所述多個腔室(3，4，5，6)中相對于所述流動路徑相鄰的腔室之間。

8.根據權利要求1到7中的任一項所述的微流體裝置，其中，所述微流體裝置包括磁場產生單元(8)，所述磁場產生單元適于借助于磁場使所述至少一個磁顆粒(7)移動通過所述多個腔室(3，4，5，6)。

9.根據權利要求8所述的微流體裝置，其中，所述磁場產生單元(8)適于施加用于延遲所述至少一個顆粒(7)的所述磁場。

10.根據權利要求1到9中的任一項所述的微流體裝置，其中，構造所述裝置，從而使得從所述多個腔室的第一個(3)到所述多個腔室的后續第二個(4)的移動方向處于第一方向，而從所述多個腔室的第二個(4)到所述多個腔室的后續第三個(5)的移動方向處于第二方向，所述第一方向與所述第二方向是不同的。

11.根據權利要求1到10中的任一項所述的微流體裝置，其中，所述微流體裝置包括多個處理模塊(2a，2b，2c，...)，每個處理模塊包括多個腔室(3，4，5，6)和連接相應多個腔室的相應流動路徑，所述流動路徑適于容納同時移動通過相應多個腔室的磁顆粒(7)。

12.根據權利要求11所述的微流體裝置，其中，為所述多個處理模塊(2a，2b，2c，...)提供公共磁場產生單元(8)。

13.根據權利要求11或12所述的微流體裝置，其中，所述處理模塊是相同的。

14.根據權利要求1到13中的任一項所述的微流體裝置，其中，所述多個腔室的個體腔室(3，4，5，6)適于執行多種不同的化學或生化過程。