[發(fā)明專(zhuān)利]被配置用于減少斑點(diǎn)偽影的帶光學(xué)反饋的激光顯示系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980138747.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-08-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102171608A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 塔哈·馬蘇德 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 微視公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03B21/00 | 分類(lèi)號(hào): | G03B21/00 |
| 代理公司: | 中原信達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219 | 代理人: | 張煥生;謝麗娜 |
| 地址: | 美國(guó)華*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 配置 用于 減少 斑點(diǎn) 光學(xué) 反饋 激光 顯示 系統(tǒng) | ||
1.一種成像系統(tǒng),包括:
多個(gè)激光光源,被配置用于產(chǎn)生多個(gè)光束;
一個(gè)或者多個(gè)光學(xué)調(diào)準(zhǔn)裝置,被配置用于把所述多個(gè)光束定向成準(zhǔn)直光束;
光調(diào)制器,被配置為利用所述準(zhǔn)直光束產(chǎn)生圖像;和
光學(xué)反饋裝置,被布置在所述一個(gè)或者多個(gè)光學(xué)調(diào)準(zhǔn)裝置和所述光調(diào)制器之間,所述光學(xué)反饋裝置被配置為引起所述多個(gè)激光光源的每一個(gè)在相干崩潰狀態(tài)中操作,從而減少當(dāng)在顯示表面上顯示所述圖像時(shí)出現(xiàn)的斑點(diǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的成像系統(tǒng),其中所述多個(gè)激光光源的每一個(gè)具有內(nèi)部空腔長(zhǎng)度和與之相關(guān)聯(lián)的相干長(zhǎng)度,其中多個(gè)外部空腔由從所述多個(gè)激光光源的每一個(gè)延伸到所述光學(xué)反饋裝置的多個(gè)光軸限定,其中所述多個(gè)外部空腔的每一個(gè)具有在該內(nèi)部空腔長(zhǎng)度和所述相干長(zhǎng)度之間的外部空腔長(zhǎng)度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的成像系統(tǒng),其中所述外部空腔長(zhǎng)度在0.1毫米和100毫米之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的成像系統(tǒng),其中所述光學(xué)反饋裝置被配置為向所述多個(gè)激光光源遞送一定數(shù)量的光學(xué)反饋從而擾動(dòng)所述多個(gè)激光光源的每一個(gè)的最小線寬模式。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的成像系統(tǒng),其中所述光學(xué)反饋裝置包括具有局部反射涂層的反射鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的成像系統(tǒng),其中所述局部反射涂層被配置為在所述準(zhǔn)直光束的百分之一和十之間反射。
7.根據(jù)權(quán)利要求5的成像系統(tǒng),其中所述局部反射涂層包括多層局部反射涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7的成像系統(tǒng),其中所述多個(gè)激光光源包括三個(gè)激光光源,每個(gè)激光光源產(chǎn)生具有三個(gè)預(yù)定光譜寬度的光,其中所述多層局部反射涂層被配置為遞送對(duì)應(yīng)所述三個(gè)預(yù)定光譜寬度的反饋。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的成像系統(tǒng),其中所述一個(gè)或者多個(gè)光學(xué)調(diào)準(zhǔn)裝置包括三個(gè)分色鏡。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的成像系統(tǒng),其中所述光調(diào)制器包括MEMS掃描鏡。
11.根據(jù)權(quán)利要求1的成像系統(tǒng),其中所述光學(xué)反饋裝置包括分光器和反射鏡,其中所述分光器被配置為把所述準(zhǔn)直光束的一部分引導(dǎo)到所述反射鏡。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的成像系統(tǒng),其中所述部分包括所述準(zhǔn)直光束的百分之一和十之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求1的成像系統(tǒng),其中所述光調(diào)制器被配置為利用所述準(zhǔn)直光束產(chǎn)生所述圖像,而無(wú)需后調(diào)制器輻射變更。
14.一種減少與顯示表面上的圖像呈現(xiàn)相關(guān)聯(lián)的斑點(diǎn)的方法,所述方法包括以下步驟:
從激光光源產(chǎn)生至少兩個(gè)光束;
把所述至少兩個(gè)光束定向成準(zhǔn)直光束;
把所述準(zhǔn)直光束分離成投影分量和反饋分量;
把所述投影分量遞送給調(diào)制裝置;和
把所述反饋分量遞送給所述激光光源,由此使得所述激光光源的每一個(gè)在相干崩潰狀態(tài)中操作。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的方法,進(jìn)一步包括使得所述調(diào)制裝置形成所述圖像呈現(xiàn)并且將所述圖像呈現(xiàn)遞送給所述顯示表面的步驟。
16.根據(jù)權(quán)利要求14的方法,其中所述反饋分量包括所述準(zhǔn)直光束的百分之一和十之間。
17.根據(jù)權(quán)利要求14的方法,其中所述的把所述準(zhǔn)直光束分離成投影分量和反饋分量的步驟包括提供局部反射鏡或包含分光器和反射鏡的系統(tǒng)之一的步驟。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的方法,其中所述的把所述準(zhǔn)直光束分離成投影分量和反饋分量的步驟包括沿著從所述激光光源延伸到所述反饋分量的光軸在距離所述激光光源0.1毫米和100毫米之間布置所述反饋分量。
19.一種光投影源,包括:
三個(gè)激光光源,每個(gè)激光光源具有與之關(guān)聯(lián)的特征最小線寬模式;
多個(gè)光學(xué)調(diào)準(zhǔn)構(gòu)件,被配置為沿著光軸引導(dǎo)來(lái)自所述三個(gè)激光光源的每一個(gè)的輸出光;和
光學(xué)反饋構(gòu)件,被配置為沿著所述光軸把光的反饋分量反射到所述三個(gè)激光光源,由此使得每個(gè)最小線寬模式失穩(wěn)和擴(kuò)展。
20.根據(jù)權(quán)利要求19的光投影源,其中所述三個(gè)激光光源包括紅激光光源、綠激光光源和藍(lán)激光光源,其中所述光學(xué)反饋構(gòu)件包括局部反射鏡或者分光器與反射鏡組合之一。
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