1.一種能夠電沉積鋅鎳合金的堿性含水電解浴，其包含：

(i)鋅離子；

(ii)鎳離子；

(iii)至少一種能絡(luò)合鎳離子的非聚合配位劑；

(iv)至少一種脲類聚合物，其選自由下列物質(zhì)所構(gòu)成的群組：(a)N，N’-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，4-[2-鹵代烷]的聚合物；或(b)N，N’-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，1’-氧雙[2-鹵代烷]的聚合物，其中(a)或(b)中的烷基官能基選自由甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基所構(gòu)成的群組，且鹵素官能基選自由氯、溴、氟和碘所構(gòu)成的群組；以及(c)無規(guī)共聚物，其包含如下(1)、(2)與(3)的反應(yīng)產(chǎn)物：(1)包括酰胺或硫酰胺官能基的一種或多種二叔胺，(2)包括不飽和部分的一種或多種第二種二叔胺，以及(3)一種或多種能與所述胺(1)和(2)反應(yīng)的第一聯(lián)結(jié)劑。

2.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中非聚合配位劑選自由單乙醇胺、二乙醇胺、三甲醇胺、三乙醇胺、三丙醇胺和N，N，N’，N’-四羥基異丙基乙二胺所構(gòu)成的群組。

3.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，包括一種浴，其包含超過一種的非聚合鎳配位劑。

4.如權(quán)利要求3所述的堿性含水電解浴，其中該配位劑包含三乙醇胺和N，N，N’，N’-四羥基異丙基乙二胺。

5.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中該脲類聚合物包含N，N’-雙[3-(二甲氨基)丙基]脲與1，1’-氧雙[2-氯乙烷]的聚合物。

6.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中該脲類聚合物包含N，N’-雙[3-(二甲氨基)丙基]脲與1，4-二氯丁烷的聚合物。

7.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中氫氧化鈉的量為約50g/L～約500g/L。

8.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中鋅離子的濃度為約2g/L～約30g/L。

9.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中鎳離子的濃度為約0.25g/L～約10g/L。

10.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中非聚合配位劑的濃度為約5g/L～約150g/L。

11.如權(quán)利要求1所述的堿性含水電解浴，其中脲類聚合物的濃度為約0.02g/L～約20g/L。

12.在導(dǎo)電基板上電沉積鋅或鋅鎳合金的方法，其包括步驟：

(a)使導(dǎo)電基板與堿性含水電解浴接觸，該電解浴包含：

(i)鋅離子；

(ii)鎳離子；

(iii)至少一種能絡(luò)合合金金屬離子的非聚合配位劑；

(iv)至少一種脲類聚合物，其選自由下列物質(zhì)所構(gòu)成的群組：(a)N，N’-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，4-[2-鹵代烷]的聚合物；和(b)N，N’-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，1’-氧雙[2-鹵代烷]的聚合物，其中(a)或(b)中的烷基官能基選自由甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基所構(gòu)成的群組，且鹵素官能基選自由氯、溴、氟和碘所構(gòu)成的群組；以及(c)無規(guī)共聚物，其包含如下(1)、(2)與(3)的反應(yīng)產(chǎn)物：(1)包括酰胺或硫酰胺官能基的一種或多種二叔胺，(2)包括不飽和部分的一種或多種第二種二叔胺，以及(3)一種或多種能與所述胺(1)和(2)反應(yīng)的第一聯(lián)結(jié)劑；

(b)在導(dǎo)電基板的表面上電解沉積金屬鋅或金屬鋅合金。

13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中電解金屬沉積步驟是在以每平方分米約0.1安培至每平方分米約25安培的范圍施加陰極電流密度時(shí)發(fā)生的。

14.如權(quán)利要求12所述的方法，其中非聚合配位劑選自由單乙醇胺、二乙醇胺、三甲醇胺、三乙醇胺、三丙醇胺和N，N，N’，N’-四羥基異丙基乙二胺所構(gòu)成的群組。

15.如權(quán)利要求12所述的方法，其中該配位劑包含三乙醇胺和N，N，N’，N’-四羥基異丙基乙二胺。

16.如權(quán)利要求12所述的方法，其中該脲類聚合物包含N，N’-雙[3-(二甲氨基)丙基]脲與1，1’-氧雙[2-氯乙烷]的聚合物。