[發(fā)明專利]顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980138424.1 | 申請日: | 2009-06-09 |
| 公開(公告)號: | CN102165363A | 公開(公告)日: | 2011-08-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 杉山裕昭;前田和宏;白木一郎 | 申請(專利權)人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/133 | 分類號: | G02F1/133;G02F1/1368;G06T1/00;G09G3/20;G09G3/36 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,其為有源矩陣型的顯示裝置,該顯示裝置的特征在于:
所述顯示裝置包括:配置有多個圖像元素的陣列,該圖像元素包含被寫入數(shù)據(jù)信號的圖像元素電極;一個以上的光傳感器電路,其以插入所述陣列中的方式設置,輸出與照射光的強度相應的信號;和光強度檢測機構,其通過對所述光傳感器電路的輸出進行檢測,對所述照射光的強度進行檢測,
各所述光傳感器電路設置在構成包括相互相鄰的2個圖像元素行的圖像元素行對的第一圖像元素行與第二圖像元素行之間的區(qū)域中,
對于所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行,設置有所述光傳感器電路用的配線以外的至少一個第一行配線,該至少一個第一行配線被外側配置,該外側配置是當與顯示面垂直地觀察時具有存在于所述圖像元素電極的區(qū)域的列方向外側的區(qū)域中的配線部分的配置,
在各所述圖像元素行對中,在所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行中,所述第一行配線的各個的所述外側配置彼此相同,是以下兩種所述外側配置中的任一種:采用成為所述圖像元素電極的區(qū)域的所述光傳感器電路一側的列方向外側的所述外側配置;和采用成為所述圖像元素電極的區(qū)域的與所述光傳感器電路一側相反的一側的列方向外側的所述外側配置,其中,所述光傳感器電路設置在所述第一圖像元素行與第二圖像元素行之間的區(qū)域中。
2.如權利要求1所述的顯示裝置,其特征在于:
對于所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行,設置有所述光傳感器電路用的配線以外的至少一個第二行配線,該至少一個第二行配線被內(nèi)側配置,該內(nèi)側配置是當與顯示面垂直地觀察時沒有存在于所述圖像元素電極的區(qū)域的列方向外側的區(qū)域中的配線部分的配置,
在各所述圖像元素行對中,在所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行中,當與顯示面垂直地觀察時,所述第二行配線的各個的所述內(nèi)側配置彼此相同,均形成為接近2個圖像元素電極邊緣中的、離所述光傳感器電路近的圖像元素電極邊緣和離所述光傳感器電路遠的圖像元素電極邊緣中的任一個,其中,該2個圖像元素電極邊緣規(guī)定能夠進行所述內(nèi)側配置的列方向的范圍的邊界,所述光傳感器電路設置在所述第一圖像元素行與所述第二圖像元素行之間的區(qū)域中。
3.如權利要求1或2所述的顯示裝置,其特征在于:
所述第一行配線是輔助電容配線,
在各所述圖像元素行對中,當與顯示面垂直地觀察時,與所述第一圖像元素行對應的各所述第一行配線和與所述第二圖像元素行對應的各所述第一行配線形成為采用列方向外側的所述外側配置,該列方向外側是對應的所述圖像元素電極的區(qū)域的與所述光傳感器電路一側相反的一側,其中,所述光傳感器電路設置在所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行之間的區(qū)域中。
4.如權利要求2所述的顯示裝置,其特征在于:
所述第一行配線是輔助電容配線,
所述第二行配線是掃描信號線,
在各所述圖像元素行對中,當與顯示面垂直地觀察時,與所述第一圖像元素行對應的各所述第一行配線和與所述第二圖像元素行對應的各所述第一行配線形成為采用列方向外側的所述外側配置,該列方向外側是對應的所述圖像元素電極的區(qū)域的與所述光傳感器電路一側相反的一側,其中,所述光傳感器電路設置在所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行之間的區(qū)域中。
5.如權利要求3或4所述的顯示裝置,其特征在于:
在所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行中,以非逆相的關系對所述第一行配線進行驅動。
6.如權利要求1或2所述的顯示裝置,其特征在于:
所述第一行配線是輔助電容配線,
在各所述圖像元素行對中,當與顯示面垂直地觀察時,與所述第一圖像元素行對應的各所述第一行配線和與所述第二圖像元素行對應的各所述第一行配線形成為采用列方向外側的所述外側配置,該列方向外側是對應的所述圖像元素電極的區(qū)域的所述光傳感器電路一側,其中,所述光傳感器電路設置在所述第一圖像元素行和所述第二圖像元素行之間的區(qū)域中。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





