[發(fā)明專利]電解處理方法及電解處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980138273.X | 申請日: | 2009-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102165106A | 公開(公告)日: | 2011-08-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 堀田久;廣川強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C25F7/00 | 分類號(hào): | C25F7/00;C25F3/04 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電解 處理 方法 裝置 | ||
1.一種電解處理方法,其通過對沿著金屬薄條的傳送方向配置的多個(gè)電極外加交流而對沿一定方向且以規(guī)定的傳送速度傳送的所述金屬薄條進(jìn)行電解處理,其中,設(shè)定金屬薄條的傳送速度、外加給一電極和另一電極的交流的頻率、及一電極和另一電極之間的金屬薄條傳送距離,從而使金屬薄條的長度方向的某一點(diǎn)通過一電極的末端時(shí)外加給金屬薄條的交流電壓波形、和金屬薄條的所述一點(diǎn)通過與所述一電極的下游側(cè)鄰接的另一電極的頂端時(shí)外加給金屬薄條的交流電壓波形不重合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解處理方法,其中,所述金屬薄條是純鋁或鋁合金的金屬薄條。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解處理方法,其中,在所述一電極與另一電極之間設(shè)置卷掛所述金屬薄條的金屬薄條傳送輥,通過設(shè)定所述金屬薄條傳送輥的高度及外徑,設(shè)定所述一電極與另一電極之間的金屬薄條傳送距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電解處理方法,其中,在所述一電極與另一電極之間設(shè)置卷掛所述金屬薄條的金屬薄條傳送輥,通過設(shè)定所述金屬薄條傳送輥的高度或外徑,設(shè)定所述一電極與另一電極之間的金屬薄條傳送距離。
5.一種電解處理裝置,其通過對沿著金屬薄條的傳送方向配置的多個(gè)電極外加交流而對在一定方向以規(guī)定的傳送速度傳送的所述金屬薄條進(jìn)行電解處理,其中,設(shè)定金屬薄條的傳送速度、外加給一電極和另一電極的交流的頻率、及一電極和另一電極之間的金屬薄條傳送距離,從而使一電極的末端的長度方向的某一點(diǎn)通過時(shí)外加給金屬薄條的交流電壓波形、和金屬薄條的所述一點(diǎn)通過與所述一電極的下游側(cè)鄰接的另一電極的頂端時(shí)外加給金屬薄條的交流電壓波形不重合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電解處理裝置,其中,所述金屬薄條是純鋁或鋁合金的金屬薄條。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電解處理裝置,其中,在所述一電極與另一電極之間具有卷掛所述金屬薄條的金屬薄條傳送輥,通過設(shè)定所述金屬薄條傳送輥的高度及外徑,設(shè)定所述一電極與另一電極之間的金屬薄條傳送距離。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電解處理裝置,其中,在所述一電極與另一電極之間具有卷掛所述金屬薄條的金屬薄條傳送輥,通過設(shè)定所述金屬薄條傳送輥的高度或外徑,設(shè)定所述一電極與另一電極之間的金屬薄條傳送距離。
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