[發明專利]納米壓印用塑模無效
| 申請號： | 200980137974.1 | 申請日： | 2009-09-24 |
| 公開（公告）號： | CN102164733A | 公開（公告）日： | 2011-08-24 |
| 發明（設計）人： | 渡邊順次;西村涼;關隆史;平井知生 | 申請（專利權）人： | 國立大學法人東京工業大學;吉坤日礦日石能源株式會社 |
| 主分類號： | B29C59/02 | 分類號： | B29C59/02;B29C33/40;C08G77/60;H01L21/027;B29K83/00 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 納米 壓印 用塑模 | ||
1.一種納米壓印用塑模，含有液晶性聚硅烷，具有通過該液晶性聚硅烷取向而形成近晶相從而形成的凹凸面。
2.根據權利要求1所述的納米壓印用塑模，所述液晶性聚硅烷的重均分子量為10000以上。
3.根據權利要求1或2所述的納米壓印用塑模，所述液晶性聚硅烷一邊形成螺旋結構一邊取向而形成近晶相。
4.一種納米壓印用塑模，其為具有凹凸面的金屬成型品或樹脂成型品，所述凹凸面轉印自權利要求1～3中的任一項所述的納米壓印用塑模的凹凸面。
5.一種納米壓印用塑模的制造方法，其具備如下工序：
形成含有液晶性聚硅烷的膜的工序；
獲得納米壓印用塑模的工序，所述工序使所述液晶性聚硅烷取向以形成近晶相，固定該液晶性聚硅烷的取向，從而在所述膜的表面形成凹凸面，獲得具有凹凸面的所述膜，并將所述膜作為納米壓印用塑模。
6.一種納米壓印用塑模的制造方法，其具備如下工序：
形成含有液晶性聚硅烷的膜的工序；
形成凹凸面的工序，所述工序使所述液晶性聚硅烷取向以形成近晶相，固定該液晶性聚硅烷的取向，從而在所述膜的表面形成凹凸面；
獲得納米壓印用塑模的工序，所述工序在所述膜的凹凸面上形成金屬成型品或樹脂成型品，獲得具有通過轉印所述凹凸面而形成的凹凸面的所述金屬成型品或所述樹脂成型品，并將所述金屬成型品或所述樹脂成型品作為納米壓印用塑模。
7.一種加工方法，通過轉印權利要求1～4中的任一項所述的納米壓印用塑模的凹凸面，對材料進行加工。
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