[發明專利]用于增加微生物對3-羥基丙酸(3-HP)的耐受性以及增加3-羥基丙酸產量的方法、系統和組合物

有效

• 申請號: 200980137400.4
• 申請日: 2009-07-23
• 公開（公告）號: CN102317436A
• 公開（公告）日: 2012-01-11
• 發明（設計）人: T·E·瓦尼克-利普斯科布;M·D·林奇;R·T·吉爾
• 申請（專利權）人: OPX生物工藝學公司;科羅拉多大學董事會
• 主分類號: C12N1/21
• 分類號: C12N1/21;C12N15/09;C12P7/52
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳文平;尚繼棟

1.一種經遺傳修飾的微生物，其包含：

a.至少一個遺傳修飾以產生3-羥基丙酸(“3-HP”)；和

b.3-HP耐受形成性復合物(“3HPTGC”)的至少一個遺傳修飾，以有效地使所述經遺傳修飾的微生物的3-HP耐受性增加至超過不含所述3HPTGC的至少一個遺傳修飾的對照微生物的3-HP耐受性。

2.權利要求1的經遺傳修飾的微生物，其中所述產生3-HP的至少一個遺傳修飾使微生物的3-HP合成增加至超過不含所述的產生3-HP的至少一個遺傳修飾的對照微生物的速率或效價。

3.權利要求1的經遺傳修飾的微生物，其中所述3HPTGC的至少一個遺傳修飾有效使所述經遺傳修飾的微生物的3-HP耐受性相對于對照微生物的3-HP耐受性增加至少大約5％，至少大約10％，至少大約20％，至少大約30％，或至少大約50％。

4.一種經遺傳修飾的微生物，其包含3-羥基丙酸(“3-HP”)耐受形成性復合物(“3HPTGC”)的組A至F中的兩個或更多個中的每一個的至少一個遺傳修飾。

5.權利要求4的經遺傳修飾的微生物，其中所述3HPTGC遺傳修飾有效使所述經遺傳修飾的微生物的3-HP耐受性相對于對照微生物的3-HP耐受性增加至少大約5％，至少大約10％，至少大約20％，至少大約30％，或至少大約50％。

6.權利要求4或5的經遺傳修飾的微生物，其中所述經遺傳修飾的微生物產生3-HP。

7.權利要求4或5的經遺傳修飾的微生物，其中所述對照微生物產生3-HP。

8.權利要求4或5的經遺傳修飾的微生物，其中所述對照微生物不產生3-HP。

9.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中所述至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組A的至少一個遺傳修飾和組B的至少一個遺傳修飾。

10.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組A的至少一個遺傳修飾和組C的至少一個遺傳修飾。

11.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組A的至少一個遺傳修飾和組D的至少一個遺傳修飾。

12.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組A的至少一個遺傳修飾和組E的至少一個遺傳修飾。

13.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組B的至少一個遺傳修飾和組C的至少一個遺傳修飾。

14.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組B的至少一個遺傳修飾和組D的至少一個遺傳修飾。

15.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組B的至少一個遺傳修飾和組E的至少一個遺傳修飾。

16.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組C的至少一個遺傳修飾和組D的至少一個遺傳修飾。

17.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組C的至少一個遺傳修飾和組E的至少一個遺傳修飾。

18.權利要求1-8任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括組D的至少一個遺傳修飾和組E的至少一個遺傳修飾。

19.前述權利要求任一項的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括選自tyrR、trpR、metJ、purR、lysR、nrdR、和等同的阻抑基因的一個或多個3HPTGC阻抑基因的至少一個遺傳修飾。

20.權利要求19的經遺傳修飾的微生物，其中至少一個3HPTGC遺傳修飾包括破壞，所述至少一個3HPTGC遺傳修飾包括一個或多個3HPTGC抑制基因的至少一個遺傳修飾。