[發(fā)明專利]可用于織物護理產品中的雙重特征聚合物無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980136407.4 | 申請日: | 2009-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN102159694A | 公開(公告)日: | 2011-08-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 曉茹·詹妮·王;約納斯·吉召;杰弗里·斯科特·德蓬 | 申請(專利權)人: | 寶潔公司 |
| 主分類號: | C11D3/00 | 分類號: | C11D3/00;C11D3/22;C11D11/00;C11D3/38;C11D3/37 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 吳小明 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 織物 護理產品 中的 雙重 特征 聚合物 | ||
1.一種包含去垢性聚合物的織物護理組合物,所述去垢性聚合物包含具有下式結構的無規(guī)取代的直鏈或支鏈聚合物主鏈:
其中所述無規(guī)取代的聚合物主鏈包含至少一個未取代的單體的殘基和至少一個取代的單體的殘基,其中所述單體的殘基獨立地選自由下列組成的組:氨基酸殘基、呋喃糖殘基、吡喃糖殘基、以及它們中的任何的混合物,并且所述取代的單體的殘基還包含-(R)p取代基,
其中每個R取代基獨立地選自陰離子取代基和含氮取代基;烷氧基取代基和含氮取代基;或烷氧基取代基、陰離子取代基和含氮取代基,其中所述陰離子取代基具有0或在0.1至2.0范圍內的取代度,所述含氮取代基具有在0.001至0.05范圍內的取代度,所述烷氧基取代基具有0或在0.01至2.0范圍內的取代度,p為1至3的整數,前提條件是所述陰離子取代基和所述烷氧基取代基的取代度不都是0,并且
其中所述去垢性聚合物具有在500道爾頓至1,000,000道爾頓范圍內的重均分子量。
2.如權利要求1所述的織物護理組合物,其中所述無規(guī)取代的聚合物主鏈為無規(guī)取代的多糖主鏈。
3.如權利要求2所述的織物護理組合物,其中所述無規(guī)取代的多糖主鏈包括無規(guī)取代的多聚葡糖主鏈,并且所述單體的殘基包括取代和未取代的吡喃葡萄糖殘基。
4.如權利要求3所述的織物護理組合物,其中所述無規(guī)取代的多聚葡糖主鏈選自由下列組成的組:無規(guī)取代的纖維素主鏈、無規(guī)取代的半纖維素主鏈、無規(guī)取代的淀粉主鏈以及它們的共混物。
5.如權利要求1所述的織物護理組合物,所述組合物還包含至少一種或多種助劑,所述助劑選自由下列組成的組:漂白活化劑、表面活性劑、助洗劑、螯合劑、染料轉移抑制劑、分散劑、酶、酶穩(wěn)定劑、催化金屬配合物、聚合物分散劑、粘土和污垢移除/抗再沉淀劑、增白劑、抑泡劑、染料、香料、香料遞送體系、結構增彈劑、織物軟化劑、載體、水溶助長劑、加工助劑和顏料。
6.如權利要求1所述的織物護理組合物,其中所述織物護理產品選自由下列組成的組:液體衣物洗滌劑、固體衣物洗滌劑、衣物洗滌皂產品和衣物洗滌噴霧處理產品。
7.一種包含去垢性聚合物的織物護理組合物,所述去垢性聚合物包含無規(guī)取代的多糖主鏈,所述多糖主鏈包含未取代和取代的吡喃葡萄糖殘基并且具有符合式I的通式結構:
其中每個取代的吡喃葡萄糖殘基獨立地包含1至3個R取代基,每個取代的吡喃葡萄糖殘基上的所述R取代基可相同或不同,并且
其中每個R取代基獨立地為選自下列的取代基:羥基、羥甲基、R1、R2、R3和具有符合式I的通式結構的多糖支鏈;羥基、羥甲基、R1、R2和具有符合式I的通式結構的多糖支鏈;或羥基、羥甲基、R1、R3和具有符合式I的通式結構的多糖支鏈,前提條件是至少一個R取代基包括至少一個R1基團,
其中每個R1相同或不同,獨立地為第一取代基,所述第一取代基具有在0.001至0.05范圍內的取代度和符合式II的結構:
其中每個R4為取代基,其選自由下列組成的組:孤對電子、H、CH3、直鏈或支鏈的飽和或不飽和的C2-C18烷基,前提條件是至少兩個所述R4基團不是孤對電子,R5為直鏈或支鏈、飽和或不飽和的C2-C18烷基鏈或直鏈或支鏈、飽和或不飽和的仲羥基(C2-C18)烷基鏈,L為連接基團,其選自由下列組成的組:-O-、-C(O)O-、-NR9-、-C(O)NR9-、和-NR9C(O)NR9-,并且R9為H或C1-C6烷基,w具有0或1的值,y具有0或1的值,并且z具有0或1的值,
每個R2相同或不同,獨立地為第二取代基,所述第二取代基具有0或在0.1至2.0范圍內的取代度和符合式III的結構:
其中R6為陰離子取代基,其選自由下列組成的組:羧酸根、羧甲基、琥珀酸根、硫酸根、磺酸根、芳基磺酸根、磷酸根、膦酸根、二羧酸根和多羧酸根,a具有0或1的值,b為0至18的整數,并且c具有0或1的值,
每個R3相同或不同,獨立地為第三取代基,所述第三取代基具有0或在0.01至2.0范圍內的取代度并且具有符合式IV的結構:
其中d具有0或1的值,e具有0或1的值,f為0至8的整數,g為0至50的整數,每個R7為基團亞乙基、亞丙基、亞丁基、或它們的混合物,并且R8為端基,選自由下列組成的組:氫、C1-C20烷基、羥基、-OR1、和-OR2,前提條件是R2和R3的取代度不都是0,并且
其中所述去垢性聚合物具有在500道爾頓至1,000,000道爾頓范圍內的重均分子量。
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