[發明專利]用于半導體光刻的投射曝光設備中的振動衰減

有效

• 申請號: 200980136165.9
• 申請日: 2009-09-15
• 公開（公告）號: CN102159996A
• 公開（公告）日: 2011-08-17
• 發明（設計）人: 彼得.克洛希;邁克爾.林格爾;馬庫斯.韋斯
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種用于半導體光刻的投射曝光設備(310)的可換組件(1)，其特征在于所述可換組件包括至少一個阻尼元件(2)，且所述可換組件實施為所述組件在小于12小時的時間周期內可被更換。

2.根據權利要求1所述的可換組件(1)，其特征在于所述可換組件(1)附加地包括至少一個光學元件(3)。

3.根據權利要求1和2中任一項所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)實施為被動阻尼元件。

4.根據權利要求3所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)具有連接到彈性元件(21)的質量元件(20)。

5.根據權利要求4所述的可換組件(1)，其特征在于所述彈性元件(21)以所述阻尼元件(2)能進行剪切運動的方式連接到所述質量元件(20)。

6.根據權利要求3到5中任一項所述的可換組件(1)，其特征在于所述質量元件(20)的質量在150g-450g的范圍內，具體地在250g-350g的范圍內。

7.根據權利要求3到6中任一項所述的可換組件(1)，其特征在于所述彈性元件(21)由含氟彈性體制成，具體由氟橡膠制成。

8.根據權利要求1和2中任一項所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)實施為具有傳感器和致動器的主動阻尼元件。

9.根據權利要求8所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)包括插棒型線圈。

10.根據權利要求8所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)包括壓電元件。

11.根據前述任一項權利要求所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)裝配有冷卻裝置，所述冷卻裝置具體地為氣體或液體冷卻機構或熱管。

12.根據權利要求1到11中任一項所述的可換組件(1)，其特征在于所述可換組件(2)實施為插入元件。

13.根據權利要求1到12中任一項所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)被設計用于衰減具有范圍為10Hz-800Hz的頻率的振動。

14.根據權利要求1到13中任一項所述的可換組件(1)，其特征在于所述阻尼元件(2)的固有頻率為所述投射物鏡的固有頻率的約95％。

15.一種用于半導體光刻的投射曝光設備(310)，其特征在于包括至少一個如權利要求1-14中任一項所述的可換組件(2)。

16.根據權利要求15所述的用于半導體光刻的投射曝光設備(310)，其特征在于所述阻尼元件(2)的所述固有頻率和/或振動方向與布置在所述可換組件(2)中的光學元件(3)的固有頻率和/或振動方向相協調。

17.根據權利要求15所述的用于半導體光刻的投射曝光設備(310)，其特征在于所述阻尼元件(2)的所述固有頻率與所述可換組件(2)之外的光學元件(7，7’)的固有頻率相協調。

18.根據權利要求15所述的用于半導體光刻的投射曝光設備(310)，其特征在于所述可換組件(2)布置在插口中。

19.一種用于半導體光刻的投射曝光設備的測量組件，包括至少一個用于檢測所述投射曝光設備的振動參數的傳感器，其中所述測量組件實施為能夠插入到所述投射曝光設備(310)中為光學元件所準備的更換開口中。