[發(fā)明專利]半導(dǎo)體集成電路裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980136123.5 | 申請(qǐng)日: | 2009-07-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102160169A | 公開(公告)日: | 2011-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 福岡耕平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/822 | 分類號(hào): | H01L21/822;H01L27/04;H03K19/094 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 集成電路 裝置 | ||
1.一種半導(dǎo)體集成電路裝置,其中包括:
電路主體,其需要數(shù)據(jù)保持狀態(tài);
數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路,其測(cè)量所述電路主體的數(shù)據(jù)保持狀態(tài);
漏電流評(píng)價(jià)電路,其測(cè)量所述電路主體的漏電流;
電壓控制信號(hào)生成電路,其進(jìn)行所述電路主體的電壓供給電路的控制;和
存儲(chǔ)電路,其存儲(chǔ)所述漏電流評(píng)價(jià)電路與所述數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路的測(cè)量結(jié)果,
所述電壓控制信號(hào)生成電路基于所述存儲(chǔ)電路的存儲(chǔ)數(shù)據(jù),對(duì)所述電壓供給電路設(shè)定使所述電路主體的漏電流為最小的電壓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
所述電壓控制信號(hào)生成電路對(duì)所述電壓供給電路設(shè)定的電壓值為源極-漏極間電壓。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
所述電壓控制信號(hào)生成電路對(duì)所述電壓供給電路設(shè)定的電壓值為源極-基板間電壓。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
所述電路主體、所述漏電流評(píng)價(jià)電路、所述存儲(chǔ)電路、所述電壓控制信號(hào)生成電路、所述電壓供給電路被設(shè)置在同一半導(dǎo)體芯片上,
所述數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路配置在與所述半導(dǎo)體芯片不同的區(qū)域內(nèi),將數(shù)據(jù)保持特性從所述不同的區(qū)域存儲(chǔ)到所述存儲(chǔ)電路中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
所述電路主體、所述數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路、所述存儲(chǔ)電路、所述電壓控制信號(hào)生成電路、所述電壓供給電路被設(shè)置在同一半導(dǎo)體芯片上,
所述漏電流評(píng)價(jià)電路配置在與所述半導(dǎo)體芯片不同的區(qū)域內(nèi),將漏電流特性從所述不同的區(qū)域存儲(chǔ)到所述存儲(chǔ)電路中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
所述電路主體、所述存儲(chǔ)電路、所述電壓控制信號(hào)生成電路、所述電壓供給電路被設(shè)置在同一半導(dǎo)體芯片上,
所述數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路及所述漏電流評(píng)價(jià)電路配置在與所述半導(dǎo)體芯片不同的區(qū)域內(nèi),將數(shù)據(jù)保持特性與漏電流特性從所述不同的區(qū)域存儲(chǔ)到所述存儲(chǔ)電路中。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
所述電路主體、所述漏電流評(píng)價(jià)電路、所述數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路、所述存儲(chǔ)電路、所述電壓控制信號(hào)生成電路被設(shè)置在同一半導(dǎo)體芯片上,
所述電壓供給電路配置在與所述半導(dǎo)體芯片不同的區(qū)域內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
該半導(dǎo)體集成電路裝置具備多個(gè)所述電壓供給電路,
所述電路主體、所述漏電流評(píng)價(jià)電路、所述數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路、所述存儲(chǔ)電路、所述電壓控制信號(hào)生成電路被設(shè)置在同一半導(dǎo)體芯片上,
多個(gè)所述電壓供給電路全部設(shè)置在所述半導(dǎo)體芯片上,或者全部配置在與所述半導(dǎo)體芯片不同的區(qū)域內(nèi),或者一部分設(shè)置在所述半導(dǎo)體芯片上而剩余的部分設(shè)置在與所述半導(dǎo)體芯片不同的區(qū)域內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
所述電路主體、所述漏電流評(píng)價(jià)電路、所述數(shù)據(jù)保持特性評(píng)價(jià)電路、所述存儲(chǔ)電路被設(shè)置在同一半導(dǎo)體芯片上,
所述電壓控制信號(hào)生成電路及所述電壓供給電路配置在與所述半導(dǎo)體芯片不同的區(qū)域內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
該半導(dǎo)體集成電路裝置還包括測(cè)量溫度狀況的溫度測(cè)量電路,
所述電壓控制信號(hào)生成電路基于所述溫度測(cè)量電路的測(cè)量結(jié)果以及所述半導(dǎo)體集成電路裝置的數(shù)據(jù)保持特性以及漏電流的評(píng)價(jià)結(jié)果,對(duì)所述電壓供給電路設(shè)定使所述電路主體的漏電流為最小的電壓。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
在即將進(jìn)行所述電路主體的規(guī)定的數(shù)據(jù)保持動(dòng)作時(shí)之前取得數(shù)據(jù)保持特性與漏電流特性,進(jìn)行電壓設(shè)定。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
定期地取得數(shù)據(jù)保持特性與漏電流特性,進(jìn)行電壓設(shè)定。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置,其中,
在超過了所設(shè)定的溫度變化量時(shí)取得數(shù)據(jù)保持特性與漏電流特性,進(jìn)行電壓設(shè)定。
14.一種通信設(shè)備,其具備權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路裝置。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





