[發明專利]鎳金可電鍍厚膜銀糊劑和低溫共燒陶瓷器件的電鍍方法以及由此制備的LTCC器件無效
| 申請號: | 200980135945.1 | 申請日: | 2009-10-02 |
| 公開(公告)號: | CN102149847A | 公開(公告)日: | 2011-08-10 |
| 發明(設計)人: | K·M·奈爾;M·A·斯庫爾奇;J·D·武爾托斯 | 申請(專利權)人: | E.I.內穆爾杜邦公司 |
| 主分類號: | C23C18/16 | 分類號: | C23C18/16;C23C18/42;C23C18/54;H01L23/15;H01B1/16 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 朱黎明 |
| 地址: | 美國特*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鎳金可 電鍍 厚膜銀糊劑 低溫 陶瓷 器件 方法 以及 由此 制備 ltcc | ||
1.一種將金屬電鍍到LTCC器件上的方法,所述方法包括以下連續步驟:
a.在介于4-12之間,優選介于4-9之間的pH值范圍內,將含鎳金屬無電電鍍到LTCC器件的含銀金屬外部電觸點上
b.將含金金屬電鍍到所述含鎳金屬上,其中所述電鍍選自無電電鍍和浸鍍。
2.一種銀糊劑組合物,所述銀糊劑組合物基于重量百分比基本上由75-90重量%的不同大小和形狀的銀粉末、任選0.5-4重量%的高耐火玻璃、以及占其余含量的有機介質組成。
3.權利要求2中所述的組合物,其中所述玻璃為包含Zn、Ba、Mg、Sr、Sn、Ti并作為“網絡形成體”的鋁硼硅酸鹽玻璃。Na離子為“網絡改性陽離子”。
4.權利要求2的組合物,其中所述玻璃包含20.2%的SiO2;2.8%的Al2O3;20.4%的B2O3;10.1%的ZnO;19.0%的BaO;3.1%的MgO;3.3%的Na2O;13.7%的SrO;5.5%的TiO2;和1.9%的SnO2。
5.100-300微英寸、優選100-150微英寸的鎳電鍍厚度以及20-100微英寸、優選20-60微英寸厚度的在鎳上的無電電鍍金厚度。
6.pH值介于4-12之間的電鍍浴條件。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





