[發(fā)明專利]用于穩(wěn)定、敏感性光檢測器的材料、制造設(shè)備與方法及由其制成的影像感應(yīng)器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980135898.0 | 申請日: | 2009-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN102165572A | 公開(公告)日: | 2011-08-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伊戈?duì)枴た邓固苟 ひ寥f諾夫;愛德華·哈特利·薩金特;田輝 | 申請(專利權(quán))人: | 因維奇技術(shù)公司 |
| 主分類號: | H01L21/34 | 分類號: | H01L21/34 |
| 代理公司: | 上海勝康律師事務(wù)所 31263 | 代理人: | 周文強(qiáng);李獻(xiàn)忠 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 穩(wěn)定 敏感性 檢測器 材料 制造 設(shè)備 方法 制成 影像 感應(yīng)器 | ||
相關(guān)申請
本申請是2008年4月18日提交的美國專利申請12/106,256的部分連續(xù)申請。
本申請要求2008年7月21日提交的美國專利61/082,473的權(quán)益。
本申請要求2009年2月23日提交的美國專利61/154,751的權(quán)益。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明總地涉及包含光敏材料(諸如納米晶體及其它光敏材料)的光學(xué)及電子裝置、系統(tǒng)及方法,及制造及使用所述裝置及系統(tǒng)的方法。
背景技術(shù)
光電裝置(諸如,影像感應(yīng)器及光伏裝置)可包含光敏材料。示例影像感應(yīng)器包含將硅用于感應(yīng)功能及讀取電子及多任務(wù)功能的裝置。在某些影像感應(yīng)器中,光敏硅光二極管及電子裝置可形成于一單硅晶圓上。其它示例影像感應(yīng)器可使用不同材料,諸如,InGaAs(用于短波IR感應(yīng)),或非晶硒(用于x-射線感應(yīng)),用于感應(yīng)(光子轉(zhuǎn)化成電子)功能。示例光伏裝置包含太陽能電池,其使用結(jié)晶硅晶圓來進(jìn)行光子-電子轉(zhuǎn)化。其它示例光伏裝置可使用一獨(dú)立的材料層(諸如,非晶硅或多晶硅)或不同材料來進(jìn)行光子-電子轉(zhuǎn)化。但是,已知這些影像感應(yīng)器及光伏裝置具有數(shù)種限制。
通過引用結(jié)合
本說明書中提及的每一專利、專利申請和/或公告通過引用其全文結(jié)合于本文中,如同每一專利、專利申請和/或公告被特別且個(gè)別指示通過引用結(jié)合的程度。
附圖說明
圖1顯示一實(shí)施例的材料堆棧物。
圖2顯示一實(shí)施例的在一像素一部分上的材料堆棧物的截面圖。
圖3顯示一實(shí)施例的在一像素上的材料堆棧物的截面圖。
具體實(shí)施方式
下面描述一種光敏裝置。所述裝置包含第一觸點(diǎn)及第二觸點(diǎn),各自具有功函數(shù),及位于所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間的光敏材料。所述光敏材料包含p-型半導(dǎo)體,且所述光敏材料具有功函數(shù)。所述裝置包含在所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間施加偏電壓的電路。所述光敏材料的功函數(shù)的大小比所述第一觸點(diǎn)的功函數(shù)的大小大至少0.4eV,且還比所述第二觸點(diǎn)的功函數(shù)的大小大至少0.4eV。所述光敏材料具有大于當(dāng)將所述偏電壓施加在所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間時(shí)從所述第一觸點(diǎn)至所述第二觸點(diǎn)的電子轉(zhuǎn)移時(shí)間的電子壽命。所述第一觸點(diǎn)提供電子注入且阻斷電洞的擷取。所述第一觸點(diǎn)與光敏材料間的界面提供少于1cm/s的表面重組速率。
下面描述一種光敏裝置。所述裝置包含第一觸點(diǎn)、n-型半導(dǎo)體、包含p-型半導(dǎo)體的光敏材料及第二觸點(diǎn)。所述光敏材料及第二觸點(diǎn)各自具有比4.5ev淺的功函數(shù)。所述裝置包含在所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間施加偏電壓的電路。所述光敏材料具有大于當(dāng)所述偏電壓施加在所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間時(shí)從所述第一觸點(diǎn)至所述第二觸點(diǎn)的電子轉(zhuǎn)移時(shí)間的電子壽命。所述第一觸點(diǎn)提供電子的注入及阻斷電洞的擷取。所述第一觸點(diǎn)與所述光敏材料間的界面提供少于1cm/s的表面重組速率。
下面描述一種光檢測器。所述光檢測器包含第一觸點(diǎn)及第二觸點(diǎn),各自具有功函數(shù)。所述光檢測器包含位于所述第一觸點(diǎn)及第二觸點(diǎn)之間的光敏材料,所述光敏材料包含p-型半導(dǎo)體,且所述光敏材料具有功函數(shù)。所述光檢測器包含在所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間施加偏電壓的電路。所述光敏材料的功函數(shù)的大小比所述第一觸點(diǎn)的功函數(shù)的大小大至少0.4eV,且還比所述第二觸點(diǎn)的功函數(shù)的大小大至少0.4eV。所述光檢測器包含在所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間施加偏電壓的電路。當(dāng)所述偏壓施加在所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)之間時(shí),所述光敏材料提供至少0.8A/W的響應(yīng)度。
以下描述中,引入許多具體細(xì)節(jié)以提供充分了解并能描述所述系統(tǒng)及方法的實(shí)施例。但是,相關(guān)領(lǐng)域技術(shù)人員會了解這些實(shí)施例可以無所述具體細(xì)節(jié)中的一個(gè)或多個(gè)或以其它組件、系統(tǒng)等而實(shí)施。其它情況下,已知結(jié)構(gòu)或操作未被顯示,或未被詳細(xì)描述,以避免混淆揭露實(shí)施例的各方面。
影像感應(yīng)器結(jié)合光檢測器陣列。這些光檢測器感應(yīng)光線,使其從光學(xué)信號轉(zhuǎn)化成電子信號。下面是多個(gè)特征的說明,其任一或組合可在實(shí)施例的光檢測器中發(fā)現(xiàn);但是,本文中的實(shí)施例并非僅限于這些特征。
一實(shí)施例的光檢測器系可輕易地與和影像感應(yīng)功能有關(guān)的其它電路(諸如,貯存電荷的電路、延遲至陣列周邊的信號水平的電路、在模擬領(lǐng)域操作這些信號量的電路、將模擬轉(zhuǎn)化成數(shù)字信號的電路,及數(shù)字領(lǐng)域中處理與影像有關(guān)的數(shù)據(jù)的電路)整合。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





