[發(fā)明專利]光學(xué)跟蹤設(shè)備中的抓起高度調(diào)整有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980135830.2 | 申請(qǐng)日: | 2009-09-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102144204A | 公開(公告)日: | 2011-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·T·德普;D·M·萊恩;S·E·克萊恩;B·L·黑斯廷斯;D·D·伯恩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 微軟公司 |
| 主分類號(hào): | G06F3/033 | 分類號(hào): | G06F3/033 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 陳斌 |
| 地址: | 美國(guó)華*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 跟蹤 設(shè)備 中的 抓起 高度 調(diào)整 | ||
1.一種抓起高度調(diào)整系統(tǒng)(100),包括:
用于將入射光發(fā)射在跟蹤表面上的光源組件(102)和用于接收來(lái)自所述跟蹤表面的光以跟蹤設(shè)備相對(duì)于所述跟蹤表面的移動(dòng)的感光組件;以及
用于響應(yīng)于所述設(shè)備被抓離所述跟蹤表面而減少所述感光組件所感測(cè)到的光的量的模糊元件(112)。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,響應(yīng)于所述設(shè)備被抓起,所述模糊元件被置于所述入射光的路徑中,以減少到達(dá)所述跟蹤表面的入射光的量。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述模糊元件包括底座光圈、底座部件、衍射光學(xué)照明透鏡、或具有全內(nèi)反射幾何結(jié)構(gòu)的照明透鏡中的至少一個(gè)。
4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,響應(yīng)于所述設(shè)備被抓起,所述模糊元件被置于反射光的路徑中,以減少反射到達(dá)感光組件的反射光的量。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述模糊元件包括光圈,穿過該光圈將所述入射光施加到所述跟蹤表面并且穿過該光圈從所述跟蹤表面接收所述反射光,該光圈被機(jī)械地構(gòu)造成遮擋反射到所述感光組件的反射光。
6.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),其特征在于,所述光圈包括隨著距所述跟蹤表面的距離的增大而越來(lái)越多地遮擋所述感光組件的圖像傳感器上的反射光的邊緣。
7.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),其特征在于,所述光圈可調(diào)整來(lái)改變對(duì)所述感光組件的圖像傳感器上的反射光的遮擋。
8.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述模糊元件隨著所述設(shè)備距所述跟蹤表面的距離增大而越來(lái)越多地遮擋反射光,并且在所述距離達(dá)到抓起高度閾值時(shí)所述感光組件禁用跟蹤模式。
9.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,還包括用于調(diào)整被用來(lái)計(jì)算抓起高度閾值的相關(guān)參數(shù)并且展示可經(jīng)由軟件界面定制的抓起高度參數(shù)的固件。
10.一種管理抓起高度的方法,包括:
在跟蹤模式期間基于進(jìn)入圖像傳感器的反射光來(lái)跟蹤設(shè)備相對(duì)于跟蹤表面的移動(dòng)(900);以及
將被自動(dòng)地解釋為禁用所述跟蹤模式的抓起高度的陰影施加到圖像傳感器(902)。
11.如權(quán)利要求10所述的方法,其特征在于,還包括使用在所述設(shè)備的底部形成的光圈來(lái)遮擋反射光的一部分以創(chuàng)建所述陰影,入射光和反射光都穿過所述光圈,所述光圈包括在所述設(shè)備被抬離所述跟蹤表面并達(dá)到所述抓起高度時(shí)遮擋反射光的所述一部分的阻擋構(gòu)件。
12.如權(quán)利要求10所述的方法,其特征在于,還包括使用在所述設(shè)備的底部形成的可調(diào)整光圈來(lái)遮擋反射光的一部分以創(chuàng)建所述陰影,入射光和反射光都穿過所述光圈,所述可調(diào)整光圈與一組阻擋構(gòu)件相關(guān)聯(lián),每一阻擋構(gòu)件具有不同的阻擋大小,以使在所述設(shè)備被抬離所述跟蹤表面時(shí)在該構(gòu)件被切入到所述光圈中的情況下以相應(yīng)不同的量來(lái)部分地遮擋反射光。
13.如權(quán)利要求10所述的方法,其特征在于,還包括:
將跟蹤表面圖像的變化與所述陰影進(jìn)行相關(guān);以及
在所述相關(guān)失敗時(shí)禁用所述設(shè)備的跟蹤模式。
14.如權(quán)利要求10所述的方法,其特征在于,還包括經(jīng)由便于操縱影響所述抓起高度的算法參數(shù)的用戶界面展示所述設(shè)備的算法設(shè)置。
15.如權(quán)利要求10所述的方法,其特征在于,還包括機(jī)械地容許所述設(shè)備當(dāng)在所述跟蹤表面上時(shí)保持跟蹤并且當(dāng)離開所述跟蹤表面預(yù)定距離時(shí)禁用所述跟蹤,所述設(shè)備是光學(xué)鼠標(biāo)。
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