[發明專利]用于激光加工的方法和設備

有效

• 申請號: 200980135211.3
• 申請日: 2009-07-08
• 公開（公告）號: CN102149509A
• 公開（公告）日: 2011-08-10
• 發明（設計）人: M·斯特勞;M·托思;M·烏特勞特;D·H·納魯姆;G·克尼佩爾斯;G·N·A·范費恩
• 申請（專利權）人: FEI公司
• 主分類號: B23K26/36
• 分類號: B23K26/36;B23K26/42;G01N23/225;B23K26/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 劉金鳳;王洪斌

1.一種通過激光束處理產生或修改結構的方法，包括：?

把激光束朝向樣本引導以產生或者修改結構；

檢測來自所述樣本的由所述激光束的入射引起的發射；

確定所述發射的屬性，所述屬性表示所述樣本的特征；以及

當所述發射指示所述激光束入射到其上的材料的變化時改變所述激光束處理。

2.如權利要求1所述的方法，其中，改變所述激光束處理包括停止把所述激光束朝向所述樣本引導。

3.如權利要求1所述的方法，其中，改變所述激光束處理包括：改變氣流、改變諸如每脈沖的能流的激光器參數、阻擋電子或離子束或者移動支撐所述樣本的臺。

4.如權利要求1所述的方法，其中，把激光束朝向樣本引導包括在具有小于10^-3?毫巴的壓強的環境中把激光束朝向樣本引導。

5.如權利要求1所述的方法，其中，把激光束朝向樣本引導包括在具有小于50?毫巴的壓強的環境中把激光束朝向樣本引導。

6.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括確定從所述樣本發射的電子流。

7.如權利要求6所述的方法，其中，確定從所述表面發射的電子流包括測量所述樣本和直接或者間接接觸所述樣本的地線之間的電流。

8.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括確定從所述樣本發射的電子的能量。

9.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括檢測從所述樣本發射的光子。

10.如權利要求9所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括檢測具有特征波長的光子。

11.如權利要求10所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括過濾具有除所述特征波長之外的波長的光子。

12.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括確定從所述表面發射的粒子的質量。

13.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括確定從所述表面發射的粒子的荷質比。

14.如權利要求12所述的方法，還包括在確定從所述表面發射的粒子的質量之前使中性粒子離子化。

15.如權利要求14所述的方法，其中，使中性粒子離子化包括使用激光束使中性粒子離子化。

16.如權利要求14所述的方法，其中，使中性粒子離子化包括使用電子束使中性粒子離子化。

17.如權利要求14所述的方法，其中，使中性粒子離子化包括引導具有時延的激光束以使通過第一激光束從所述樣本噴射的演進發射離子化。

18.如權利要求14所述的方法，其中，使中性粒子離子化包括使用第二激光束使中性粒子離子化。

19.如權利要求1所述的方法，其中，確定從所述表面發射的粒子的質量包括使用感應耦合等離子體質譜分析法確定所述質量。

20.如權利要求1所述的方法，其中，把激光束朝向樣本引導包括把具有小于一皮秒的脈沖持續時間的脈沖激光朝向所述樣本引導。

21.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括使用窄帶檢測器來檢測僅具有指定屬性的發射。

22.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括確定所述發射的電流。

23.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括確定所述發射的能量。

24.如權利要求1所述的方法，還包括把帶電粒子束朝向所述樣本引導。

25.如權利要求1所述的方法，其中，確定所述發射的屬性包括確定所述發射的能譜。

26.一種在樣本上產生結構的方法，包括：

把激光束朝向樣本引導以產生或者修改結構；

把帶電粒子束朝向所述樣本引導；

檢測來自所述樣本的由所述帶電粒子束的入射所引起的發射；

確定所述發射的屬性，所述屬性表示所述樣本的特征；以及

當所述發射指示所述激光束入射到其上的材料的變化時改變激光束處理。