[發明專利]三取代嘧啶化合物及其作為PDE10抑制劑的用途

無效

• 申請號: 200980134752.4
• 申請日: 2009-09-03
• 公開（公告）號: CN102143951A
• 公開（公告）日: 2011-08-03
• 發明（設計）人: 川西英治;松村岳彥
• 申請（專利權）人: 田邊三菱制藥株式會社
• 主分類號: C07D239/48
• 分類號: C07D239/48;C07D241/42;C07D241/44;A61K31/506;A61P25/18;A61P25/28;A61P25/30
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種三取代的嘧啶化合物或者其藥學上可接受的鹽，所述嘧啶化合物由式[I]表示：

其中：X¹和X²的其中之一為N，X¹和X²的另一個為CH；

A為^*-CH＝CH-、^*-C(Alk)＝CH-、^*-CH₂-CH₂-或者^*-O-CH₂-(^*為與R¹的鍵)；

Alk為低級烷基；

環B為任選取代的含氮脂族雜環基團；

R¹為任選取代的喹喔啉基或者任選取代的喹啉基；

Y為式：的取代氨基；

R²為選自由下式(1)、(2)和(3)組成的組的基團；或者R²和R³與連接至它們的氮原子一起形成在4位上由低級烷氧基取代的嗎啉基或哌啶子基；

其中：

X³為-O-、-S-或-SO₂-；

m和n各自獨立地為0、1、2、3或4，m+n為2、3、4或5；

p為0、1、2、3或4；和

R^d和R^e可以相同或不同并各自獨立地為氫、低級烷基或鹵素；

其中：

R⁴為選自由以下組成的組的基團：羥基、低級烷氧基、低級環烷氧基、羥基取代的低級烷基、低級烷氧基取代的低級烷基和低級環烷氧基取代的低級烷基；和R^f為氫、低級烷基、低級環烷基或鹵素；和

(3)

????????????????????-(CH₂)q-O-R⁵

其中：

R⁵為氫、低級烷基或低級環烷基；和

q為1、2、3或4；

R³為選自由以下組成的組的基團：氫、低級烷基、低級環烷基、低級烷氧基取代的低級烷基和低級環烷氧基取代的低級烷基；

或者R²和R³與連接至它們的氮原子一起形成在4位上由低級烷氧基取代的嗎啉基或哌啶子基。

2.根據權利要求1所述的化合物，其中當A為^*-CH＝CH-或^*-C(Alk)＝CH-時，A中的雙鍵為E型異構形式。

3.根據權利要求1所述的化合物，其中R¹為由式[X]表示的基團：

其中：

X^a為N或CH；

R^a、R^b和R^c各自獨立地為選自由以下組成的組的基團：氫；鹵素；羥基；低級烷基；低級環烷基；鹵代低級烷基；低級烷氧基；鹵代低級烷氧基；硝基；氨基；和由選自由低級烷基和低級環烷基組成的組的相同或不同取代基單取代或雙取代的氨基。

4.根據權利要求3所述的化合物，其中X^a為N。

5.根據權利要求1至4任一項所述的化合物，其中R²為由下式表示的基團：

其中所述符號如權利要求1中定義。

6.根據權利要求1至4任一項所述的化合物，其中R²為由下式表示的基團：

其中所述符號如權利要求1中定義。

7.根據權利要求1至6任一項所述的化合物，其中A為^*-CH＝CH-、^*-C(Alk)＝CH-或^*-CH₂-CH₂-。

8.根據權利要求1至6任一項所述的化合物，其中A為^*-CH＝CH-。