[發明專利]含有鉻(Ⅲ)源的水溶液的制造方法無效
| 申請號： | 200980134662.5 | 申請日： | 2009-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN102143915A | 公開（公告）日： | 2011-08-03 |
| 發明（設計）人： | 星野重夫;真保良吉;田中保之 | 申請（專利權）人： | 日本化學工業株式會社 |
| 主分類號： | C01G37/00 | 分類號： | C01G37/00;C23C22/48;C25D3/06;C25D3/10 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 含有 水溶液 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種含有鉻(III)源的水溶液的制造方法，其特征在于：在反應液溫為0℃以上且低于50℃的條件下，在無機堿水溶液中以三價鉻的量相對于堿的量不局部過剩的方式添加含有三價鉻的水溶液，生成氫氧化鉻后，將該氫氧化鉻溶解在酸水溶液中。
2.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述酸水溶液是溶解了有機酸或無機酸的水溶液。
3.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述酸水溶液是溶解了兩種以上的酸的水溶液。
4.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于：在生成所述氫氧化鉻后進行過濾，并進行水洗直到濾液的導電率達到5mS/cm以下為止。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的制造方法，其特征在于：所述氫氧化鉻具有由通過粒度分布測定裝置測定的體積平均粒徑MV、與根據掃描式電子顯微鏡圖像所測定的平均粒徑D之比MV/D所表示的凝聚度為10以上且小于70，以及平均粒徑D為40nm～200nm。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的制造方法，其特征在于：溶解在所述酸水溶液中的所述氫氧化鉻成為懸浮在水中的漿料的狀態，該漿料實質上不含雜質離子。
7.一種含有鉻(III)源的水溶液，其特征在于：其是利用根據權利要求1至6中任一項所述的制造方法而獲得，并且用于金屬的表面處理或三價鉻化成處理。
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