[發明專利]碳酸鉻(III)及其制造方法

無效

• 申請號: 200980134566.0
• 申請日: 2009-08-27
• 公開（公告）號: CN102143914A
• 公開（公告）日: 2011-08-03
• 發明（設計）人: 桑野弘行;番田知宏;田中保之
• 申請（專利權）人: 日本化學工業株式會社
• 主分類號: C01G37/00
• 分類號: C01G37/00;C25D21/14
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

技術領域

本發明涉及一種碳酸鉻(III)及其制造方法。按照本發明的方法制造的碳酸鉻(III)例如在鍍鉻或三價鉻化成(chemical?conversion)處理等金屬的表面處理中有用。

背景技術

鍍鉻作為裝飾用及工業用而被用于許多產業領域中。鍍鉻由于在大氣中不被腐蝕而不失去光澤，因此被廣泛用作裝飾鍍敷。另外，由于具有高硬度及低摩擦系數，所以被廣泛用于需要耐磨損性的機械零件等。該鍍敷時所用的鍍液中使用大量的六價鉻。由于擔心六價鉻對人體造成影響，因此必須在鍍敷廢液的處理時在非常嚴酷的條件下，將六價鉻還原成三價鉻以不釋放到環境中。因此，期望開發出使用三價鉻來代替六價鉻的鍍液。

關于使用三價鉻的鍍液，例如專利文獻1中記載了一種使用氯化鉻、硫酸鉻、氨基磺酸鉻等三價的鉻化合物的鍍鉻液作為裝飾用鍍敷的鍍液。但是，當使用氯化鉻或硫酸鉻等無機鹽的三價鉻作為鉻源時、鉻因鍍敷而被消耗，相對于此，作為鉻鹽的抗衡陰離子的氯化物離子或硫酸根離子殘存在鍍液中。而且，因鍍液必須使其液體組成保持一定，所以使用鍍液要適當追加與消耗的鉻相當的量的鉻源，因此氯化物離子或硫酸根離子在鍍液中蓄積。因此，最終無法保持一定的液體組成，而要全部更換成新的鍍液，使用后的鍍液要作為廢液而進行處理。

關于解決所述問題的方法，專利文獻2中提出了以下的三價鉻鍍敷方法：在使用含有氯化鉻及氯化銨的鍍液進行三價鉻鍍敷時，使一部分鍍液循環到冷卻裝置，在該冷卻裝置中使一部分氯化銨晶析并加以除去，由此一邊控制鍍液中的氯化銨濃度一邊進行鍍敷。

另外也提出：將作為抗衡陰離子不蓄積的化合物的氫氧化鉻以其含水凝膠狀態用作三價鉻源，解決所述問題(參照專利文獻3)。但是，氫氧化鉻通常在水中的溶解性低，在通常被用作鍍液的酸性水溶液中溶解性也低。因此，鍍液的制備時需要在加溫下攪拌長時間。另外，補充所消耗的鉻時，也需要長時間以溶解所補充的氫氧化鉻。出于這些原因，在這期間中鍍敷作業被中斷，鍍液的制備及鍍敷作業產生問題。

以往的氫氧化鉻的制造方法例如已知專利文獻4～專利文獻6中記載的方法。但是，這些文獻中，絲毫未提及使用碳酸鉻(III)代替氫氧化鉻來作為三價鉻源。

另外，下述非專利文獻1中記載，在鉻(III)鹽水溶液中添加堿金屬碳酸鹽(alkali?carbonate)或堿金屬碳酸氫鹽(alkali?hydrogencarbonate)溶液而獲得碳酸鉻(III)。且該文獻中記載，該碳酸鉻(III)為淡綠色。像這樣而獲得的碳酸鉻(III)如該文獻中記載那樣成為沉淀，因此無法用作三價鉻源。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開平9-95793號公報(第2頁)

專利文獻2：日本專利特開2002-322599號公報(權利要求)

專利文獻3：日本專利特開2006-249518號公報

專利文獻4：日本專利特開昭52-35794號公報(權利要求、第1頁及第2頁)

專利文獻5：日本專利特開昭53-132499號公報(權利要求、第1頁及第2頁)

專利文獻6：日本專利特開平2-92828號公報(權利要求、第1頁及第2頁)

非專利文獻

非專利文獻1：化學大辭典5，縮印版第34印次，共立出版株式會社，1993年6月1日，第723頁

發明內容

本發明的目的在于提供一種作為三價鉻源而有用的碳酸鉻(III)。

本發明提供一種碳酸鉻(III)，其特征在于：在固體狀態下呈淡藍色，以L^*a^*b^*表色系統(JIS?Z8729)所表示的L^*值為50～70、a^*值為-4～-2、b^*值為-10～-7。

另外，本發明提供一種碳酸鉻(III)的制造方法，其特征在于：在反應液溫為0℃以上且低于50℃的條件下，將碳酸鹽水溶液與含有三價鉻的水溶液同時添加到水性介質中，以生成碳酸鉻。

發明的效果