[發(fā)明專利]耐腐蝕性磁鐵及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980134446.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-07-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102144267A | 公開(公告)日: | 2011-08-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 菊川篤;吉村公志;栃下佳己;蒲池政直;三角信弘 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日立金屬株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01F7/02 | 分類號(hào): | H01F7/02;B22F3/24;C22C38/00;H01F1/053;H01F41/02 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 腐蝕性 磁鐵 及其 制造 方法 | ||
1.一種耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,在R-Fe-B系燒結(jié)磁鐵表面,介由包含Al或其合金的被膜,具有至少含有Zr、V、Al、氟、氧作為構(gòu)成元素的化學(xué)轉(zhuǎn)化被膜(但不含磷)。
2.權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,化學(xué)轉(zhuǎn)化被膜的膜厚為0.001μm~1μm。
3.權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,化學(xué)轉(zhuǎn)化被膜厚度的外表面?zhèn)鹊囊话雲(yún)^(qū)域中的Zr含量與磁鐵側(cè)的一半?yún)^(qū)域中的Zr含量相比,前者比后者多。
4.權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,化學(xué)轉(zhuǎn)化被膜厚度的外表面?zhèn)鹊囊话雲(yún)^(qū)域中的V含量與磁鐵側(cè)的一半?yún)^(qū)域中的V含量相比,前者比后者多。
5.權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,化學(xué)轉(zhuǎn)化被膜厚度的外表面?zhèn)?/3的區(qū)域中的氟含量與中央部1/3的區(qū)域中的氟含量及磁鐵側(cè)1/3的區(qū)域中的氟含量相比,中央部1/3的區(qū)域中的氟含量最多。
6.權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,化學(xué)轉(zhuǎn)化被膜中的V至少以3價(jià)~5價(jià)的3種價(jià)態(tài)存在,5價(jià)所占的比例在60%以上。
7.權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,包含Al或其合金的被膜為蒸鍍被膜,包含從磁鐵體表面向外表面展寬地生長(zhǎng)的柱狀結(jié)晶組織,在被膜厚度方向的從磁鐵體表面至1/3的區(qū)域中,具有在被膜橫向每10μm存在5個(gè)~30個(gè)寬0.01μm~1μm的結(jié)晶間空隙的部分。
8.權(quán)利要求7所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,具有柱狀結(jié)晶組織的結(jié)晶寬度在被膜厚度方向的從磁鐵體表面至1/3的區(qū)域中為0.1μm~1μm,其余2/3區(qū)城中為1μm~5μm的部分。
9.權(quán)利要求7所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,平均成膜速度在達(dá)到所希望的被膜厚度的1/3厚度前為0.1μm/分鐘~0.4μm/分鐘,其后為0.2μm/分鐘~1μm/分鐘(但后者通常比前者快),由此形成蒸鍍被膜。
10.權(quán)利要求1所述的耐腐蝕性磁鐵,其特征在于,包含Al或其合金的被膜的膜厚為3μm~20μm。
11.耐腐蝕性磁鐵的制造方法,其特征在于,在R-Fe-B系燒結(jié)磁鐵的表面,通過使平均成膜速度在達(dá)到所希望的被膜厚度的1/3厚度之前為0.1μm/分鐘~0.4μm/分鐘,而其后為0.2μm/分鐘~1μm/分鐘(但后者通常比前者快),由此蒸鍍形成包含Al或其合金的蒸鍍被膜,然后,在其表面形成至少含有Zr、V、Al、氟、氧作為構(gòu)成元素的化學(xué)轉(zhuǎn)化被膜(但不含磷)。
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