[發(fā)明專利]用于閥的流體流動(dòng)控制部件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980134273.2 | 申請(qǐng)日: | 2009-08-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102239354A | 公開(公告)日: | 2011-11-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林春;E·A·米勒;R·R·佩爾弗雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 艾默生過程管理調(diào)節(jié)技術(shù)公司 |
| 主分類號(hào): | F16K39/02 | 分類號(hào): | F16K39/02;F16K1/38 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 鄭立柱 |
| 地址: | 美國得*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 流體 流動(dòng) 控制 部件 | ||
相關(guān)申請(qǐng)
本專利是2009年3月11日提交的美國專利申請(qǐng)No.12/402,076的部分繼續(xù)案,該美國專利申請(qǐng)No.12/402,076是2008年9月2日提交的美國專利申請(qǐng)No.12/202,876的部分繼續(xù)案,這兩個(gè)專利申請(qǐng)作為參考整體引述在本文中。
技術(shù)領(lǐng)域
本專利一般地涉及流體流動(dòng)控制部件,更具體地涉及用于閥的流體流動(dòng)控制部件。
背景技術(shù)
內(nèi)閥用于多種商業(yè)和工業(yè)應(yīng)用中,以控制流體儲(chǔ)存容器與另一個(gè)容器、軟管、管道等之間的流體流動(dòng)。通常,內(nèi)閥裝配有均衡部件,用于在完全打開閥之前均衡橫跨閥的流體壓力。流體壓力橫跨閥均衡的速度與閥的尺寸以及通過該均衡部件的流體流速相關(guān)。
為了均衡橫跨已知的內(nèi)閥的壓力,這些閥裝配有具有切除部或者槽的閥桿,取決于該切除部或者槽相對(duì)于將閥流體地耦接到容器、軟管、管道等的孔的位置,該切除部或者槽改變通過均衡部件的流體流速。具體地,如果切除部或者槽鄰近孔,流體流動(dòng)路徑的尺寸是較大的,相反,如果切除部或者槽遠(yuǎn)離孔,流體流動(dòng)路徑的尺寸是較小的。
不同的內(nèi)閥具有不同直徑的孔和不同尺寸的閥桿。相應(yīng)地,孔的直徑受閥的尺寸的限制,用于被從閥桿去除以制造切除部或者槽的材料的量受閥桿的尺寸的限制。通常,從主體去除材料降低了其結(jié)構(gòu)完整性,并且因此,能夠從閥桿去除的材料的量受限于這樣一個(gè)量:其使得能夠保持閥桿的結(jié)構(gòu)完整性同時(shí)提供用于均衡橫跨閥的壓力的流體流動(dòng)路徑。因此,已知內(nèi)閥能夠被完全打開的速度受限于能夠從閥桿去除的材料的量。
此外,該切除部或者槽在閥桿上產(chǎn)生非圓柱表面。由于制造公差,當(dāng)閥桿移動(dòng)時(shí),該閥桿可能摩擦限定所述孔的表面。不像光滑的圓柱表面,該非圓柱表面具有邊緣,該邊緣可能在限定該孔的表面造成一個(gè)或者多個(gè)溝,其降低了閥的使用壽命。并且,在一些情形中,這些邊緣和限定孔的表面之間的接合導(dǎo)致閥發(fā)生故障。
發(fā)明內(nèi)容
一個(gè)示例性的用于內(nèi)閥的提升閥裝置包括第一和第二相對(duì)的支撐面,用于控制通過該內(nèi)閥的流體流動(dòng)。此外,該示例性的提升閥裝置包括用于接收該內(nèi)閥的閥桿的孔。并且,該示例性的提升閥裝置包括流動(dòng)轉(zhuǎn)向器,用于使通過該提升閥裝置的流體流動(dòng)轉(zhuǎn)向,以實(shí)質(zhì)上阻止該流體流動(dòng)壓縮至少部分地放置在該提升閥裝置內(nèi)的彈簧。
另一個(gè)示例性的用于內(nèi)閥的提升閥裝置包括第一主體,該第一主體具有用于密封地接合該內(nèi)閥的第二主體的第一支撐面。該第一主體限定了用于密封地接合該內(nèi)閥的閥塞的、在該第一支撐面對(duì)面的第二支撐面、用于接收該內(nèi)閥的閥桿的孔、以及與該孔同軸地對(duì)準(zhǔn)的膛。此外,該示例性的提升閥裝置包括耦接到該提升閥裝置的板。該板或者該膛的至少一個(gè)限定了開口,該開口的尺寸適于當(dāng)耦接到該閥桿的彈簧座被鄰近該開口放置時(shí)實(shí)質(zhì)上地限制通過該提升閥裝置的流體流動(dòng)。
附圖說明
圖1示出了一種已知的內(nèi)閥;
圖2示出了用于實(shí)施圖1的已知的內(nèi)閥的閥桿;
圖3示出了處于閉合位置的一個(gè)示例性的提升閥及溢流閥組件的一部分;
圖4示出了處于打開位置的圖3的示例性的提升閥及溢流閥的所述部分;
圖5示出了可以用于實(shí)施圖3的示例性的提升閥及溢流閥的一個(gè)替代的示例性的滑動(dòng)部件;
圖6示出了可以用于實(shí)施圖3的示例性的提升閥及溢流閥的一個(gè)示例性的提升閥;
圖7示出了圖6的示例性的提升閥的俯視圖;
圖8示出了圖6的示例性的提升閥的仰視圖;
圖9A示出了可以用于實(shí)施圖3的示例性的提升閥和溢流閥的一個(gè)示例性的替代的配置;
圖9B示出了可以用于實(shí)施圖3的示例性的提升閥和溢流閥的、類似于圖9A所示的例子的另一個(gè)示例性的替代的配置;
圖10示出了可以用于實(shí)施圖3的示例性的提升閥和溢流閥的另一個(gè)示例性的替代的配置;
圖11示出了可以用于實(shí)施圖3的示例性的提升閥和溢流閥的一個(gè)示例性的彈簧座;
圖12示出了另一個(gè)示例性的提升閥和溢流閥組件的一部分;
圖13示出了另一個(gè)示例性的提升閥和溢流閥組件的一部分;
圖14示出了內(nèi)閥及示例性的提升閥和溢流閥組件的一部分;
圖15示出了一個(gè)示例性的提升閥;
圖16示出了另一個(gè)示例性的提升閥和溢流閥組件的一部分;
圖17示出了一個(gè)示例性的提升閥。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于艾默生過程管理調(diào)節(jié)技術(shù)公司,未經(jīng)艾默生過程管理調(diào)節(jié)技術(shù)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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