[發(fā)明專利]半透明反射鏡以及半透明反射鏡的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980132045.1 | 申請日: | 2009-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN102124141A | 公開(公告)日: | 2011-07-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 中島誠二;森哲也;早瀬哲生;大前慶佑 | 申請(專利權)人: | 歐姆龍株式會社 |
| 主分類號: | C23C18/31 | 分類號: | C23C18/31;G02B5/08 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 賈靜環(huán) |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半透明 反射 以及 制造 方法 | ||
1.一種半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:包括
有機膜形成工序,將基底組合物涂敷于透明基板或透明底片上,并進行聚合以形成有機膜,其中,上述基底組合物含有具有3個以上反應基團的加聚性化合物、具有酸性基團的加聚性化合物以及具有親水性官能團的加聚性化合物;
金屬鹽生成工序,用含有金屬(M1)離子的水溶液來處理上述有機膜,以此使上述酸性基團成為金屬(M1)鹽;
金屬固定工序,用含有金屬(M2)離子的金屬(M2)離子水溶液,對被含有上述金屬(M1)離子的水溶液處理過的有機膜進行處理,從而使源自上述酸性基團的金屬(M1)鹽成為金屬(M2)鹽,其中,上述金屬(M2)離子的離子化傾向低于上述金屬(M1)離子;
還原工序,使上述金屬(M2)離子還原,以在上述有機膜表面上形成金屬膜。
2.根據(jù)權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:
通過印刷法或刻印法來進行上述的涂敷,以此對上述有機膜賦予凹凸形狀。
3.根據(jù)權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:
上述酸性基包括選自由羧基、磺酸基、苯酚基、苯甲酸基、鄰苯二甲酸基、水楊酸基、乙酰水楊酸基以及苯磺酸基構成的群體中的官能團。
4.根據(jù)權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:
上述具有3個以上反應基團的加聚性化合物中的反應基團包括丙烯酰基和/或甲基丙烯?;?。
5.根據(jù)權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:
上述親水性官能團包括環(huán)氧乙基和/或環(huán)氧丙基。
6.根據(jù)權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:
上述金屬(M1)是鉀或鈉。
7.根據(jù)權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:
上述金屬(M2)是選自由錫、鎳、銦、金、鈀以及銀構成的的群體中的1種或2種以上的金屬。
8.根據(jù)權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法,其特征在于:
在上述還原工序中,使用選自由(1)~(3)構成的群體中的1種以上的還原劑及/或使用選自由紫外線、熱、等離子以及氫構成的群體中的1種以上的還原方法來進行上述金屬(M2)離子的還原,其中,
(1):抗壞血酸、抗壞血酸鈉、硼酸氫化鈉、硼酸氫化鉀、二甲胺硼、三甲胺硼、檸檬酸、檸檬酸鈉、單寧酸、二硼甲烷、肼、甲醛;
(2):上述(1)所示化合物的衍生物;
(3):亞硫酸鹽、次亞磷酸鹽。
9.一種半透明反射鏡,其特征在于:
在透明基板或透明膜片上形成有有機膜,
該有機膜上形成有由粒徑為10nm~100nm的金屬顆粒構成的金屬膜。
10.根據(jù)權利要求9所述的半透明反射鏡,其特征在于:
上述金屬顆粒是選自由錫、鎳、銦、金、鈀以及銀構成的群體中的1種或2種以上的金屬的顆粒。
11.根據(jù)權利要求9所述的半透明反射鏡,其特征在于:
制造半透明反射鏡之前的透明基板或透明膜片的x-z截面中的、從連接上述透明基板的兩端部或透明膜片的兩端部的直線起至上述透鏡基板或透明膜片為止的最大距離與
上述半透明反射鏡的x-z截面中的、從連接上述半透明反射鏡的兩端部的直線起至上述半透明反射鏡為止的最大距離之間的差在20μm以下。
12.一種半透明反射鏡,其特征在于:
是通過權利要求1所述的半透明反射鏡的制造方法而制造的。
13.根據(jù)權利要求9或12所述的半透明反射鏡,其特征在于:
該半透明反射鏡的全透射率為10%~80%。
14.一種電子部件或電子設備,其特征在于:
具備權利要求9或12所述的半透明反射鏡。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產(chǎn)物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





