[發明專利]具有經調節的斑點的活動斑點陣列平版印刷投影系統

有效

• 申請號: 200980131156.0
• 申請日: 2009-07-21
• 公開（公告）號: CN102112926A
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發明（設計）人: P·F·米開羅斯基
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 錢慰民

1.一種活動斑點陣列投影系統，包括：

具有可單獨尋址元件的空間光調制器，用以沿光學路徑有選擇地傳遞光束的相應的橫向分段部分；

所述可單獨尋址元件包括周緣邊界；

沿光學路徑的聚焦陣列，所述聚焦陣列具有用于將光束的橫向分段部分聚焦成斑點的各個聚焦元件；

沿光學路徑的成像光學器件，用于將空間光調制器的可單獨尋址元件成像到各聚焦元件上；

沿光學路徑的空間頻率濾波器，其配置成使來自可單獨尋址元件的光的某些空間頻率發生衰減以便調整斑點的光分布，但不使來自可單獨尋址元件的光的其它空間頻率發生衰減，從而保持可單獨尋址元件的周緣邊界的成像分辨率并避免相鄰斑點之間的串擾。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，光的某些空間頻率起因于可單獨尋址元件的周緣邊界內的可單獨尋址元件的不規則性，并且其它空間頻率包括起因于可單獨尋址元件的周緣邊界的較高空間頻率，并且所述空間頻率濾波器配置成使起因于可單獨尋址元件的不規則性的光的某些空間頻率發生衰減但不使起因于可單獨尋址元件的周緣邊界的光的較高空間頻率發生衰減。

3.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述空間頻率濾波器包括非圓形孔徑光闌，用以使某些空間頻率發生衰減。

4.如權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括用光束照射所述空間光調制器的可單獨尋址元件的發光器，所述發光器具有一出射光瞳，其尺寸填充了成像光學器件的入射光瞳的有限部分，使得光束與空間光調制器的可單獨尋址元件的規則特征相遇之處基本上落在由發光器光瞳所填充的成像光學器件光瞳的有限部分之內，并且光束與空間光調制器的可單獨尋址元件的不規則性相遇之處延展至超出由發光器光瞳所填充的成像光學器件光瞳的有限部分。

5.如權利要求4所述的系統，其特征在于，所述空間頻率濾波器使成像光學器件光瞳的中間放射帶內的光發生衰減，所述中間放射帶(a)徑向地延伸超過由發光器光瞳所填充的成像光學器件光瞳的有限部分以便使起因于可單獨尋址元件的不規則性的光發生衰減；并(b)從成像光學器件光瞳的周緣徑向偏移，使得起因于可單獨尋址元件的周緣邊界的橫向分段部分內的光的至少一部分穿過成像光學器件光瞳。

6.如權利要求5所述的系統，其特征在于，所述空間頻率濾波器使中間放射帶的角度分隔部分內的光發生衰減，以便增強會聚而形成斑點的角度分布中的徑向對稱。

7.如權利要求5所述的系統，其特征在于，所述空間頻率濾波器是位于成像光學器件的孔徑光闌附近的變跡器。

8.如權利要求5所述的系統，其特征在于，所述空間頻率濾波器是位于成像光學器件的孔徑光闌附近的相位片。

9.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述空間光調制器是數字微鏡器件，并且可單獨尋址元件包括可在沿光學路徑傳遞光束的相應橫向分段部分的一個位置和沿另一方向傳遞光束的相應橫向分段部分的另一位置之間獨立地切換的鏡。

10.如權利要求9所述的系統，其特征在于，所述鏡包括偏離平坦性的局部斜面，并且所述周緣邊界與鏡的邊緣對應，其中所述空間頻率濾波器使起因于偏離平坦性的局部斜面的光的空間頻率發生衰減，同時限制了對將鏡邊緣成像到聚焦陣列的各聚焦元件上做出貢獻的光的空間頻率的衰減。

11.一種活動斑點陣列投影系統，包括：

具有可單獨尋址鏡的數字微鏡器件，用來有選擇地沿光學路徑反射一光束的橫向分段部分；

所述可單獨尋址鏡包括周緣以及通過斜率的局部變化而偏離平坦性的表面不規則性；

用光束照射數字微鏡器件的可單獨尋址鏡的發光器；

沿光學路徑的微型透鏡陣列，其具有用于將光束的橫向分段部分聚焦成斑點的各個微型透鏡；

沿光學路徑的成像透鏡，用以將數字微鏡器件的可單獨尋址鏡成像在各微型透鏡上；

所述發光器具有一出射光瞳，其大小用來填充成像透鏡的入射光瞳的有限部分；

鏡的周緣和表面不規則性偏離平整性以便至少部分地填充成像透鏡光瞳的剩余部分；以及

濾波器，其配置成使成像透鏡光瞳的剩余部分內的一部分光發生衰減以便調節光斑形狀，同時將其它部分的光保持在成像透鏡光瞳的剩余部分內以便將鏡的周緣成像在微型透鏡陣列上。