[發明專利]真空泵系統

有效

• 申請號: 200980130694.8
• 申請日: 2009-06-02
• 公開（公告）號: CN102119276A
• 公開（公告）日: 2011-07-06
• 發明（設計）人: L.M.菲利普;N.J.吉賓斯;M.R.茨爾尼亞克;M.穆內伊
• 申請（專利權）人: 愛德華茲有限公司
• 主分類號: F04B51/00
• 分類號: F04B51/00;F04D19/04;F04D27/00;F04C28/28
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 趙華偉;譚祐祥

技術領域

本發明涉及一種包括真空泵機構和用于驅動該機構的馬達的系統。

背景技術

至此，公知的真空泵系統包括真空泵機構和用于驅動該機構的馬達。可連接該泵系統以從用于處理晶片（例如，半導體晶片）的處理系統中排出流體，該處理系統包括處理室和傳輸室。這種真空泵系統的狀況會在該系統的操作期間惡化,且需要維修活動來修復、修理或維修該系統的狀況。例如，過濾器可被粒子堵塞而需要更換。之前，自該系統交付客戶或自上次維修活動執行以來根據逝去時間安排這種維修活動。例如，可在交付之后一個月且此后定期地安排維修活動。這種安排沒有考慮到對維修活動的實際需要，因為如果比如該系統的操作時間少于預期，則安排維修活動時該系統的狀況可能不需要維修。可替代地，且可能更危險地，因為該系統比預期的使用更加廣泛，所以狀況可能在安排的維修活動之前就需要維修。因此，期望根據系統狀況的實際實時需要對該系統執行維修活動。

還公知的是在處理系統中提供真空泵子系統以及其它子系統。減排系統就是這種子系統的一個實例。減排系統處理從真空泵系統中排出的氣體以從該排出的氣體中移除危險過程副產物或其它物質。為了移除這種物質，減排系統消耗資源，例如功率、水、氣體或其它化學制品。如果連接該泵裝置以從處理室（例如，用于處理半導體晶片的處理室）泵送氣體，則在處理過程開始之前啟動減排系統，且其以足以處理來自該泵裝置的氣體的最大預期流率的固定容量繼續操作。如果減排系統以小于這種固定容量來操作，則某些氣體可能未經處理就被釋放到環境中。應當理解，如果減排系統被設定成以固定容量運行，則當以小于最大預期速率從真空泵系統排出氣體或當沒有氣體排出時系統會存在冗余。期望控制減排系統使得其以足以處理排氣的容量操作而不會消耗不必要的資源。

發明內容

本發明提供一種真空泵系統，其包括：

至少一個真空泵機構；

馬達，其用于驅動所述至少一個真空泵機構；

通過監控一段時間內所述馬達的特性來確定該時間上所述真空泵系統的累積負載的裝置；以及

用于當所述累積負載超過預定量時啟動對所述系統的維修活動的裝置。

真空泵系統可適用于與處理系統一起使用，該處理系統包括處理室和傳輸室，晶片可以在處理室中被處理，晶片可以通過傳輸室被傳輸至處理室以便處理且在處理之后從處理室中傳輸出。在這種情況下，真空泵系統可包括：

第一所述真空泵機構，其由第一所述馬達驅動以從處理室中排出氣體；以及

第二所述真空泵機構，其由第二所述馬達驅動以從傳輸室中排出氣體；

其中，所述確定裝置通過監控所述第一馬達或所述第二馬達的所述特性來確定一段時間內所述真空泵系統的累積負載。

本發明還提供一種用于真空泵系統的維修檢測單元，所述系統包括：

真空泵機構；

馬達，其用于驅動所述真空泵機構；以及

系統控制單元；

其中，所述維修單元包括：

通過監控所述馬達的特性來確定一段時間內所述真空泵系統的累積負載的裝置；

用于當所述累積負載超過預定量時啟動對所述系統的維修活動的裝置；以及

界面，其用于允許所述維修檢測單元與所述控制單元面接使得所述確定裝置可以監控所述特性。

本發明還提供一種處理系統，其包括用于從該系統的室中排出氣體的真空泵子系統，其中

所述真空泵子系統包括：

至少一個真空泵機構；以及

馬達，其用于驅動所述至少一個真空泵機構；且其中，所述泵裝置包括：

通過監控所述馬達的特性來確定所述真空泵機構的負載的裝置；

根據所述真空泵機構的所述確定負載來控制所述系統內的至少一個其它子系統的操作的控制裝置。

本發明還提供一種用于處理系統的控制單元，所述處理系統包括用于從該系統內的室排出氣體的真空泵子系統，所述真空泵子系統包括：

真空泵機構；以及

馬達，其用于驅動所述真空泵機構；

其中，所述控制單元包括：

通過監控所述馬達的特性來確定所述真空泵子系統的負載的裝置；

根據所述真空泵子系統的確定負載來控制所述系統內的至少一個其它子系統的操作的裝置。

由所附權利要求來限定本發明的其它優選和/或可選方面。

附圖說明

為了更好地理解本發明，現在將參照附圖對僅以實例的方式給出的其某些實施例作出描述，在附圖中：

圖1是真空泵系統的示意圖；

圖2是第二真空泵系統和處理系統的示意圖；