[發明專利]官能化薄膜聚酰胺膜無效
| 申請號: | 200980130351.1 | 申請日: | 2009-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN102112214A | 公開(公告)日: | 2011-06-29 |
| 發明(設計)人: | M·H·施滕策爾;R·戈多伊-洛佩斯;S·哈里森;E·里扎爾多 | 申請(專利權)人: | 聚合物華潤有限公司 |
| 主分類號: | B01D69/12 | 分類號: | B01D69/12;B01D71/56;C08F2/38;C08F293/00;B01D61/02;C08L77/00 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 劉金輝;林柏楠 |
| 地址: | 澳大利亞*** | 國省代碼: | 澳大利亞;AU |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 官能 薄膜 聚酰胺 | ||
1.一種在微孔基材上制備官能化薄膜復合聚酰胺膜的方法,包括在多孔基材上在如下組分的存在下進行a)具有至少兩個胺官能團的芳族胺與具有至少3個-C(O)Cl基團的芳族酰鹵的縮聚反應:
b1)自由基加成斷裂鏈轉移(RAFT)控制劑或
b2)原子轉移自由基聚合(ATRP)控制劑或
b3)具有縮水甘油基官能團的氮氧化物介導的自由基聚合(NMRP)控制劑。
2.一種根據權利要求1的在微孔基材上制備由連續聚酰胺層組成的官能化薄膜復合膜的方法,包括在多孔基材上進行如下組分的縮聚反應:
a)具有至少兩個胺官能團的芳族胺;與
具有至少3個-C(O)Cl基團的芳族酰鹵;以及
b1)具有酰鹵官能團的自由基加成斷裂鏈轉移(RAFT)控制劑,
b2)具有酰鹵官能團的原子轉移自由基聚合(ATRP)控制劑,或
b3)具有縮水甘油基官能團的氮氧化物介導的自由基聚合(NMRP)控制劑。
3.一種根據權利要求1或2的在微孔基材上制備官能化薄膜復合聚酰胺膜的方法,包括在多孔基材上在如下組分的存在下進行a)式(I)的芳族胺與式(II)的芳族酰鹵的縮聚反應,其中
R10-R15中的至少兩個為-NH2且其余的獨立地為氫或C1-C4烷基,R16-R21中的至少三個為基團-C(O)Cl且其余的獨立地為氫或C1-C4烷基:
b1)式(IIIa)或(IIIb)的RAFT控制劑:
或
b2)式(IVa)或(IVb)的ATRP控制劑:
或
b3)式(Va)或(Vb)的NMRP控制劑:
其中n為1-4的數;
其中在式(IIIa)和(IIIb)中,
在式(IIIa)中的Z1為C1-C18亞烷基、被一個或多個氧原子間隔的C3-C18亞烷基或亞苯基,所有基團可以被C1-C4烷基、鹵素、氰基、C1-C4烷氧基或C1-C4烷氧羰基取代;
在式(IIIb)中的Z2為氫、氯、C1-C18烷基、苯基、C3-C7環烷基、C3-C7環烯基、C3-C7雜環烷基、C3-C7雜環烯基、C1-C18烷硫基、苯硫基、C7-C12苯基烷硫基、C1-C18烷氧基、苯氧基、氨基、C1-C18烷氧羰基、苯氧羰基、羧基、C1-C18酰氧基、苯甲酰氧基、氨基甲酰基、氰基、C2-C18二烷基膦酸酯基、二苯基膦酸酯基、C1-C18二烷基次膦酸酯基、二苯基次膦酸酯基或數均聚合度為5-1000的聚合物鏈;這些基團均可被C1-C4烷基、鹵素、氰基、C1-C4烷氧基或C1-C4烷氧羰基取代;
R22、R23和R24各自獨立地為H,鹵素,C1-C20烷基,C1-C8環烷基,數均聚合度為5-1000的聚合物鏈,C(=Y)R101,C(=Y)NR102R103,其中Y可以為NR104或O,R101為1-20個碳原子的烷基、1-20個碳原子的烷氧基、芳氧基或雜環氧基,R102和R103獨立地為H或1-20個碳原子的烷基,或者R102和R103結合在一起形成2-5個碳原子的亞烷基,由此形成3-6員環,以及R104為H、直鏈或支化C1-C20烷基或芳基;或
R22、R23和R24各自獨立地為CN、C2-C20鏈烯基或炔基,環氧乙烷基,縮水甘油基,芳基,雜環基,芳烷基,芳基取代的鏈烯基,其中烷基如上所定義,并且鏈烯基為可以被1或2個C1-C4烷基和/或鹵原子取代的乙烯基,其中一個至所有氫原子被鹵素替代的C1-C6烷基,其中一個或多個鹵原子被替代,以及被1-3個選自C1-C4烷氧基、芳基、雜環基、C(=Y)R101、C(=Y)NR102R103、環氧乙烷基和縮水甘油基的取代基取代的C1-C6烷基;從而使得R22、R23和R24中不超過2個為H;
R25為C1-C18亞烷基、被一個或多個氧原子間隔的C3-C18亞烷基,或亞苯基,所有基團可以被C1-C4烷基、鹵素、氰基、C1-C4烷氧基、C(=Y)R101、C(=Y)NR102R103取代,其中Y、R101、R102和R103如上所定義;
其中在式(IVa)和(IVb)中,
X為Cl、Br或I;
R30為C1-C18亞烷基、被一個或多個氧原子間隔的C3-C18亞烷基,或亞苯基,所有基團可以被C1-C4烷基、鹵素、氰基、C1-C4烷氧基、C(=Y)R101、C(=Y)NR102R103取代,其中Y、R101、R102和R103如上所定義;
R31和R32具有與R22和R23相同的含義;
其中在式(Va)和(Vb)中,
R1各自相互獨立地為氫、鹵素、NO2、氰基,
-CONR5R6、-(R9)COOR4、-C(O)-R7、-OR8、-SR8、-NHR8、-N(R8)2、氨基甲酰基、二(C1-C18烷基)氨基甲酰基、-C(=NR5)(NHR6);未取代的C1-C18烷基、C2-C18鏈烯基、C2-C18炔基、C7-C9苯基烷基、C3-C12環烷基或C2-C12雜環烷基;或
C1-C18烷基、C2-C18鏈烯基、C2-C18炔基、C7-C9苯基烷基、C3-C12環烷基或C2-C12雜環烷基,它們被NO2、鹵素、氨基、羥基、氰基、羧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4烷基氨基或二(C1-C4烷基)氨基取代;或
苯基、萘基,它們未被取代或被C1-C4烷基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、鹵素、氰基、羥基、羧基、C1-C4烷基氨基或二(C1-C4烷基)氨基取代;
R4為氫、C1-C18烷基、苯基、堿金屬陽離子或四烷基銨陽離子;
R5和R6為氫、C1-C18烷基、被至少一個羥基取代的C2-C18烷基,或者一起形成C2-C12亞烷基橋或被至少一個O或/和NR8原子間隔的C2-C12亞烷基橋;
R7為氫、C1-C18烷基或苯基;
R8為氫、C1-C18烷基或被至少一個羥基取代的C2-C18烷基;
R9為C1-C12亞烷基或直接的鍵;
或者所有R1一起形成具有至少一個二價或三價氮原子的多環脂環族環體系或多環雜脂環族環體系的殘基;
R2相互獨立地為苯基或C1-C6烷基或者兩個R2與連接的碳原子一起形成C5-C6環烷基;
A為形成環狀5、6或7員環所需的二價基團,和
R3為式(II)的基團:
其中
X1為亞苯基、亞萘基或亞聯苯基,它們未被取代或被NO2、鹵素、氨基、羥基、氰基、羧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基、C1-C4烷基氨基或二(C1-C4烷基)氨基取代;
R’相互獨立地為H或CH3;
D為基團和
m為1-4的數。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于聚合物華潤有限公司,未經聚合物華潤有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200980130351.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:改進的附著升降腳手架的多功能附墻支承座
- 下一篇:治療失眠健忘癥的中藥制劑





