[發明專利]錯流盤及其實施方法

有效

• 申請號: 200980130295.1
• 申請日: 2009-08-12
• 公開（公告）號: CN102105201A
• 公開（公告）日: 2011-06-22
• 發明（設計）人: I·紐沃德特;C·A·格瑞塞爾
• 申請（專利權）人: 科氏-格利奇有限合伙公司
• 主分類號: B01D17/038
• 分類號: B01D17/038;B01D17/06;B01D35/30;B01D27/08;B01D25/36
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 浦易文;丁曉峰

1.一種用在柱狀物中的錯流盤，以便于所述柱狀物中的流體流之間進行質量轉移和/或熱交換，所述錯流盤包括：

大體平坦的盤臺面；

進口區域，所述進口區域定位在所述盤臺面上，液體在所述進口區域處被引導到所述盤臺面上；

降液管，所述降液管在所述盤臺面上具有進入開口，用于在所述液體自所述進口區域沿所述盤臺面沿下游方向流動之后、自所述盤臺面排出所述液體；

多個蒸汽開口，所述多個蒸汽開口在所述盤臺面中，用于使蒸汽能通過所述開口向上通過所述盤臺面；

多個罐，所述多個罐定位在所述盤臺面上，并且具有圍繞所述蒸汽開口的壁，從而通過所述盤臺面的所述蒸汽在所述罐內上升，其中，第一組罐在所述盤臺面上定位在第一區域中，而第二組罐在所述盤臺面上定位在第二區域中，所述第二區域位于所述第一區域的所述下游方向；

渦流器，所述渦流器定位成：對在所述罐內上升的所述蒸汽施加渦流運動；

進入開口，所述進入開口在所述罐的所述壁中，用于使液體能自所述盤臺面進入所述罐；

排出開口，所述排出開口定位在所述罐的壁中的所述進入開口上方，以使液體在所述罐內與利用渦流運動上升的所述蒸汽相互作用之后離開所述罐；以及

堰，所述堰定位在所述盤臺面上第一區域中的所述第一組罐和所述盤臺面上第二區域中的所述第二組罐之間。

2.如權利要求1所述的錯流盤，其特征在于，所述堰包括與所述罐的外形適應的半球形截面，并且沿所述下游方向離所述罐隔開均勻距離，以使所述盤臺面上的液體能繞所述罐循環。

3.如權利要求2所述的錯流盤，其特征在于，所述堰具有上緣，所述上緣定位在所述罐的壁中所述進入開口上方的一定水平處。

4.如權利要求3所述的錯流盤，其特征在于，所述堰的上緣定位在所述罐的壁中所述排出開口下方的一定水平處。

5.如權利要求1所述的錯流盤，其特征在于，所述第一組罐和所述第二組罐中具有相同數量的罐。

6.如權利要求1所述的錯流盤，其特征在于，所述第一組罐和所述第二組罐中具有不同數量的罐。

7.如權利要求1所述的錯流盤，其特征在于，所述排出開口在所述第一組罐中主要或完全定位在所述罐的下游側，并面向所述下游方向，從而通過所述排出開口離開所述罐的液體在返回所述盤臺面之前、沿所述下游方向被攜帶越過所述堰。

8.如權利要求7所述的錯流盤，其特征在于，所述堰中的第二堰定位在所述第二區域中所述第二組罐的所述下游方向。

9.如權利要求8所述的錯流盤，其特征在于，所述排出開口在所述第二組罐中主要或完全定位在所述罐的下游側，并面向所述下游方向，從而通過所述排出開口離開所述罐的液體在返回所述盤臺面之前、沿所述下游方向被攜帶越過所述第二堰。

10.如權利要求1所述的錯流盤，其特征在于，所述錯流盤包括噴濺壁，所述噴濺壁在相鄰罐之間延伸，以對通過所述排出開口離開所述罐的所述液體進行阻擋，防止所述液體被攜帶而沿與所述下游方向相反的上游方向運動。

11.如權利要求10所述的錯流盤，其特征在于，所述噴濺壁具有的高度大約與所述罐的高度相等。