[發明專利]用于制造微透鏡的方法無效
| 申請號: | 200980130130.4 | 申請日: | 2009-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN102112896A | 公開(公告)日: | 2011-06-29 |
| 發明(設計)人: | 安杰利卡·凱克;克里斯托夫·門格爾;馬克斯·沃伊特 | 申請(專利權)人: | 德國捷德有限公司 |
| 主分類號: | G02B3/00 | 分類號: | G02B3/00;B42D15/00;G07D7/20;B29D11/00;B32B27/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 任宇 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制造 透鏡 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種可用作為數據載體的驗證裝置或安全特征的微透鏡基片,以及微透鏡的制造方法和這種微透鏡基片的制造方法。
背景技術
數據載體(如有價文件或證明文件)或其它有價物(例如帶有商標的貨物)經常為保護而提供有安全元件,所述安全元件允許檢查物品的真實性,且同時用作防未授權復制的保護。
概念“數據載體”也不包括此數據載體的可循環的前期階段,例如在安全文件的情況中以近似連續的形式存在且隨后被進一步處理的數據載體前期階段。在本發明中,數據載體尤其是指鈔票、股票、債券(Anleihen)、證書(Urkunden)、憑單(Gutschein)、支票、高價入場券,以及其它有被偽造風險的文件,例如護照和其它證明文件,還有卡形數據載體,特別是芯片卡以及產品安全元件,例如標簽、印記、包裝等。
安全元件可嵌入此數據載體內,例如嵌入在鈔票或芯片卡內,或構造為自攜式的轉移元件,例如構造為補丁(Patch)或標簽,所述轉移元件在制造后安裝在待保護的數據載體或其它物品上。
安全元件通常產生良好可見的光學印象,因此該安全元件除其作為安全手段的功能外,偶爾也用作裝飾元件。
為防止例如使用高級彩色復印設備偽造或仿制安全元件,安全元件通常具有光學可變元件,當觀察者在不同的觀察角度下觀察時,所述光學可變元件給出不同的圖像印象,且示出例如不同的顏色印象或不同的圖形主題。在此方面,例如已知使用具有壓印全息圖形式的微米或納米衍射光學結構,或使用另外的類似于全息圖的衍射結構。
為產生光學可變元件,此外已知使用微透鏡設備。例如,EP0219012A2公開了一種平行的、相互對接的圓柱透鏡的規則布置,所述布置取決于視向由于圓柱透鏡的會聚效果僅示出分別處于圓柱透鏡下方的條形區域。在圓柱透鏡下方因而布置了條形的拆分圖像,所述拆分圖像對于觀察者根據視向組合為完整圖像。根據觀察角度,在此在圓柱透鏡水平布置時可見不同的圖像,從而可產生翻轉圖像或動畫。如果圓柱透鏡處于垂直方向,則可在圖像內引入立體視差,從而可使觀察者產生空間印象。
除使用圓柱透鏡外,也已知的是,使用規則布置的球面透鏡,如在云紋(Moire-)放大設備中所使用。
US5712731A涉及使用此云紋放大設備作為安全特征的應用。US5712731A中所描述的安全設備具有基本上相同印制的微圖像的規則布置,以及基本上相同的球面微透鏡的規則的二維布置。在此,微透鏡裝置具有與微圖像布置基本上相同的分布。如果通過微透鏡裝置觀察微圖像布置,則在兩個布置基本上配準的區域內,對于觀察者產生一個或多個放大的微圖像形象。
此類云紋放大設備的原理上的功能方式在M.C.Hutley,R.Hunt,R.F.Steven?and?P.Savander等人發表于Pure?Appl.Opt.3(1994)的第133-142頁的文章“The?moirémagnifier”中描述。簡言之,云紋放大表明了一種現象,所述現象在通過其柵格尺寸與由相同圖像對象構成的柵格近似相同的透鏡柵格來觀察所述圖像柵格時發生。如在每對類似的柵格中,在此出現了云紋圖,所述云紋圖在此情況中作為重復圖像柵格的重復元素的放大的且必要時旋轉的圖像出現。基于此機制的另外的構造變化和效果例如在Kamal等人發表于Optical?Engineering?37(11)的第3007-3014頁(1998年11月)中的文章“Properties?of?moirémagnifier”中描述。
如EP1147912B1中描述,規則的微透鏡布置也可用作用于安全元件的驗證裝置。在此,安全元件的特定結構僅在通過此驗證元件進行觀察時才對于觀察者可見,因此可以對平常的(unbefangen)觀察者隱藏安全元件的功能。
為制造此微透鏡設備,在現有技術中已知不同的技術。在EP1878584A2中,為此公開了借助于凹版印刷將光學漆印制在支承基片上。在凹版印刷板上形成凹陷,所述凹陷形成希望的透鏡設備的負形狀。此外,此文獻也公開了將凹印版用作壓印工具,借助于所述壓印工具將希望的微透鏡設備例如形成在層壓片內。此類方法也在EP0698256B2中描述,其中,此處替代地也公開了聯合使用光刻膠層(Photoresistschicht)和合適的掩模來制造微透鏡。
在DE102006003798A1中作為另外的替代描述了底漆層的部分涂敷,這例如產生了表面張力的局部改變,而所述局部改變可用于制造微透鏡。
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