[發明專利]提供改善的脲氣化以形成含氨氣體的選擇性催化還原NOx的方法和裝置有效
| 申請號： | 200980129310.0 | 申請日： | 2009-05-27 |
| 公開（公告）號： | CN102105208A | 公開（公告）日： | 2011-06-22 |
| 發明（設計）人： | 威廉.H.桑;羅納德.A.勞;約翰.M.博伊爾 | 申請（專利權）人： | 燃料技術公司 |
| 主分類號： | B01D53/56 | 分類號： | B01D53/56 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美國伊*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 提供 改善 氣化 形成 氨氣 選擇性 催化 還原 no sub 方法 裝置 | ||
1.對脲進行氣化以降低燃燒氣體中氮氧化物濃度的方法，包括：
a.將脲進料到氣化室中，
b.在通過能夠使所述脲作為細小顆粒或液滴分配的注射器裝置引入所述脲的位置的上游，將經加熱的氣體進料到所述氣化室中，
c.在所述室中靠近所述注射器裝置提供氣體分配板，
d.在所述氣體分配板上提供孔的排列和間隔，以使所述注射器裝置附近的氣體速度高于所述室壁附近的氣體速度，和
e.有效地調節所述脲和所述經加熱的氣體的進料速率以使所述脲在離開所述室之前氣化。
2.權利要求1的方法，其中，所述孔的排列和間隔由計算流體動力學或冷流建模確定。
3.權利要求1的方法，其中，所述脲作為水溶液引入。
4.權利要求3的方法，其中，所述水溶液以約5％～約70％的濃度引入。
5.權利要求1的方法，其中，所述脲作為細碎固體引入。
6.權利要求1的方法，其中，在引入所述脲的位置的上游的所述經加熱的氣體的溫度為至少約400°F。
7.權利要求6的方法，其中，在引入所述脲的位置的上游的所述經加熱的氣體的溫度為約600°F～約1300°F。
8.權利要求1的方法，該方法進一步包括使含有氣化的脲的所述氣體通過設計用于捕集來自任意來源的固體或液體的元件，所述元件如篩網，系列擋板或葉片，過濾器等。
9.權利要求7的方法，其中，所述元件含有用于將HNCO或脲或副產物轉化為氨的催化劑。
10.權利要求1的方法，該方法包括使來自所述氣化室的氣體通過有效地用于NOx的選擇性催化還原的催化劑的步驟。
11.一種裝置，其包括：
a.具有頂部、底部和側壁的氣化室，
b.注射器裝置，其用于將脲進料到所述氣化室中并能夠使所述脲作為細小顆粒或液滴分配在所述室內，
c.輸送管裝置，其用于在所述注射器裝置的上游將經加熱的氣體進料到所述氣化室中，
d.在所述室中靠近所述注射器裝置的氣體分配板，其具有有效地使所述注射器裝置附近的氣體速度高于所述室側壁附近的氣體速度的孔的排列和間隔，和
e.氣體排出裝置，其用于引導來自所述室的含有經氣化的脲的經加熱的氣體。
12.采用所公開的方法和裝置的系統。
13.用于使脲氣化的方法，包括：
a.將脲進料到氣化室中，
b.在通過能夠使所述脲作為細小顆粒或液滴分配的注射器裝置引入所述脲的位置的上游，將加熱到至少400°F的氣體進料到所述氣化室中，
c.在所述室中靠近所述注射器裝置提供氣體分配板，
d.在所述氣體分配板上提供孔的排列和間隔，以使所述注射器裝置附近的氣體速度高于所述室壁附近的氣體速度，和
e.有效地調節所述脲和所述經加熱的氣體的進料速度以使所述脲在離開所述室之前氣化。
14.權利要求11的方法，其中，所述孔的排列和間隔由計算流體動力學或冷流建模確定。
15.權利要求11的方法，其中，所述脲作為水溶液引入。
16.權利要求13的方法，其中，所述水溶液以約5％～約70％的濃度引入。
17.權利要求11的方法，其中，所述脲作為細碎固體引入。
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