[發(fā)明專利]正型放射線敏感性組合物和抗蝕圖案形成方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980127664.1
• 申請(qǐng)日: 2009-07-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102099749A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 庵野祐亮;藤原考一;杉浦誠(chéng);若松剛史
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: JSR株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/40
• 分類號(hào): G03F7/40;C08F220/28;G03F7/039;H01L21/027
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 左嘉勛;顧晉偉

1.一種正型放射線敏感性組合物，其在抗蝕圖案形成方法的工序(1)中使用，所述抗蝕圖案形成方法包含：工序(1)，使用第一正型放射線敏感性組合物在基板上形成第一抗蝕圖案；工序(2)，通過(guò)使所述第一抗蝕圖案對(duì)光或熱鈍化，從而使其對(duì)第二正型放射線敏感性組合物不溶；和工序(3)，使用所述第二正型放射線敏感性組合物，在形成有所述第一抗蝕圖案的基板上形成第二抗蝕圖案，

所述正型放射線敏感性組合物含有(B)具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)和交聯(lián)基團(tuán)的聚合物、(C)放射線敏感性酸產(chǎn)生劑和(D)溶劑。

2.如權(quán)利要求1所述的正型放射線敏感性組合物，其進(jìn)一步含有(A)具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)但不具有交聯(lián)基團(tuán)的聚合物。

3.如權(quán)利要求2所述的正型放射線敏感性組合物，其中，所述聚合物(A)和所述聚合物(B)含有：

下述通式(1)表示的具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)的重復(fù)單元，和

選自下述通式(2-1)～(2-5)和下述式(2-6)中的至少一個(gè)的具有內(nèi)酯結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元、或下述通式(2-7)表示的重復(fù)單元，

所述通式(1)中，R¹表示氫原子、甲基或三氟甲基；R²相互獨(dú)立地表示碳原子數(shù)為1～4的直鏈狀或支鏈狀的烷基、或碳原子數(shù)為4～20的1價(jià)脂環(huán)式烴基，或表示任意兩個(gè)R²相互結(jié)合并與各自結(jié)合的碳原子一起形成的碳原子數(shù)為4～20的2價(jià)脂環(huán)式烴基或其衍生物，剩余的R²表示碳原子數(shù)為1～4的直鏈狀或支鏈狀的烷基、或碳原子數(shù)為4～20的1價(jià)脂環(huán)式烴基或其衍生物，

所述通式(2-1)中，R³表示氫原子或碳原子數(shù)為1～4的取代或非取代的烷基，p表示1～3的整數(shù)；所述通式(2-4)和(2-5)中，R⁴表示氫原子或甲氧基；所述通式(2-2)和(2-3)中，A表示單鍵或亞甲基，m表示0或1；所述通式(2-3)和(2-5)中，B表示氧原子或亞甲基，

所述通式(2-7)中，R¹⁰表示氫原子、甲基或三氟甲基，R¹¹相互獨(dú)立地表示氫原子或碳原子數(shù)為1～5的鏈狀烴基，D表示單鍵、碳原子數(shù)為1～30的2價(jià)或3價(jià)鏈狀烴基、碳原子數(shù)為3～30的2價(jià)或3價(jià)脂環(huán)式烴基、或者碳原子數(shù)為6～30的2價(jià)或3價(jià)芳香族烴基；其中，D為3價(jià)時(shí)，D所含有的碳原子與構(gòu)成環(huán)狀碳酸酯的碳原子結(jié)合，形成環(huán)結(jié)構(gòu)；n表示2～4的整數(shù)。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的正型放射線敏感性組合物，其中，所述聚合物(B)含有下述通式(3-1)和(3-2)中的至少任一通式表示的重復(fù)單元，

所述通式(3-1)和(3-2)中，R¹表示氫原子、甲基或三氟甲基；所述通式(3-1)中，R⁵表示亞甲基、亞乙基或亞丙基，R⁶表示下述通式(4)所示的基團(tuán)或下述通式(5)所示的基團(tuán)；所述通式(3-2)中，R⁷表示亞甲基或碳原子數(shù)為2～6的亞烷基，R⁸表示氫原子、甲基或乙基；n表示0或1，

所述通式(4)和(5)中，R⁹相互獨(dú)立地表示氫原子或1～10的直鏈狀或支鏈狀的烷基。

5.如權(quán)利要求4所述的正型放射線敏感性組合物，其中，相對(duì)于所述聚合物(B)所含有的重復(fù)單元的總和100mol％，所述聚合物(B)所含有的、所述通式(3-1)或(3-2)表示的重復(fù)單元的比例為1～30mol％。