[發明專利]透明基材上的凸起特征及相關方法

有效

• 申請號: 200980125911.4
• 申請日: 2009-05-01
• 公開（公告）號: CN102076621A
• 公開（公告）日: 2011-05-25
• 發明（設計）人: R·R·格里滋布朗斯基;S·L·羅格諾弗;A·M·斯特列利佐夫
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: C03B17/00
• 分類號: C03B17/00;H01J17/16
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 樊云飛;周承澤

1.一種在透明基材上形成凸起特征的方法，該方法包括以下步驟：

提供具有表面的透明基材，該基材在加工波長范圍內的吸收小于約20％；

用加工波長范圍內的加工光束輻照透明基材的一部分，以增大該基材的輻照部分在加工波長范圍中的吸收；

在加工波長范圍內繼續輻照該部分的透明基材，使得該基材局部加熱并膨脹，從而在基材表面上形成凸起的特征；和

結束輻照，以停止對基材的加熱，從而固定凸起特征。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，用加工光束輻照透明基材的一部分以增大該基材的輻照部分在加工波長范圍中的吸收的步驟包括在該基材輻照部分中產生加工波長范圍內的光引發吸收。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，產生光引發吸收的步驟包括改變在該基材的輻照部分中的離子的氧化態。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，改變在該基材的輻照部分中的離子的氧化態的步驟包括改變在可見光波長不發生吸收的離子的氧化態。

5.如權利要求2所述的方法，其特征在于，產生光引發吸收的步驟包括在該基材的輻照部分中形成光吸收缺陷。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明基材包括堿土鋁硅酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、和鋁硅酸鈉玻璃中的一種。

7.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明基材中包含至少一種以下組分：銻(Sb)、砷(As)、錫(Sn)、鐵(Fe)、鈰(Ce)、鉛(Pb)、過渡金屬、及它們的氧化物。

8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明基材的熱膨脹系數約為30-120。

9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明基材的退火點小于約900℃。

10.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述加工光束包括以下的一種：紫外波長、近紫外波長、近紅外波長、和紅外波長。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于，所述加工光束的波長小于約380納米。

12.如權利要求1所述的方法，其特征在于，在加工波長范圍內繼續輻照該部分透明基材的步驟包括用該加工光束繼續輻照該部分透明基材。

13.如權利要求1所述的方法，其特征在于，用加工波長范圍內的加工光束輻照透明基材的一部分的步驟包括用具有第一波長的第一加工光束輻照該部分透明基材；在加工波長范圍內繼續輻照該部分透明基材的部分的步驟包括用具有第二波長的第二加工光束輻照該部分。

14.一種在透明基材上形成凸起特征的方法，該方法包括以下步驟：

提供具有表面的透明基材，該基材在第一波長范圍內的吸收小于約20％；

用第一波長范圍內的光輻照該透明基材的一部分，使得該透明基材的輻照部分中的吸收大于第二波長范圍內的約40％；

用第二波長范圍內的光輻照該部分透明基材，使得該基材局部加熱并膨脹，從而在基材表面上形成凸起特征；和

結束輻照以停止基材的加熱，從而固定凸起特征。

15.如權利要求14所述的方法，其特征在于，所述第一波長范圍和第二波長范圍至少部分重合。

16.如權利要求14所述的方法，其特征在于，所述第一波長范圍和第二波長范圍并不重合。

17.一種包括透明玻璃基材的制品，該基材的表面上形成有一個或多個凸起特征，所述特征通過在基材中相應的一個或多個位置進行局部輻照使基材的玻璃膨脹而形成。

18.如權利要求17所述的制品，其特征在于，所述透明玻璃基材中包含至少一種以下組分：銻(Sb)、砷(As)、錫(Sn)、鐵(Fe)、鈰(Ce)、鉛(Pb)、過渡金屬、及它們的氧化物，對基材進行局部輻照導致發生光引發吸收。

19.如權利要求18所述的制品，其特征在于，所述光引發吸收基本在可見光波長光譜以外。

20.如權利要求17所述的制品，其特征在于，所述透明玻璃基材包括以下中的一種：堿土鋁硅酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、和鋁硅酸鈉玻璃。