[發(fā)明專利]磁盤用基板及其制造方法以及磁盤有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980125007.3 | 申請(qǐng)日: | 2009-06-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102077278A | 公開(公告)日: | 2011-05-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 磯野英樹;土屋弘 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | HOYA株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G11B5/73 | 分類號(hào): | G11B5/73;G11B5/82;G11B5/84 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 崔成哲 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁盤 用基板 及其 制造 方法 以及 | ||
1.一種磁盤用基板,具有圓環(huán)狀的主表面,其特征在于,
具有相對(duì)通過所述主表面的中心的軸各向同性的形狀,在以所述軸向?yàn)楦叨葧r(shí)的所述主表面的所述高度在半徑方向上的變動(dòng)量從所述主表面的內(nèi)周端朝向外周端單調(diào)增加,并且所述主表面的表面粗糙度是0.15nm以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤用基板,其特征在于,所述主表面的高度在所述圓環(huán)狀的所述內(nèi)周端最高,在所述外周端最低。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁盤用基板,其特征在于,對(duì)于所述主表面的高度,使最高的位置與最低的位置之差成為0.3μm以上10μm以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任意一項(xiàng)所述的磁盤用基板,其特征在于,所述基板由玻璃構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁盤用基板,其特征在于,在所述主表面的至少一方中具有壓縮應(yīng)力層,壓縮應(yīng)力值在兩個(gè)所述主表面之間不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~5中的任意一項(xiàng)所述的磁盤用基板,其特征在于,所述基板的抗折強(qiáng)度是5kgf以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1~6中的任意一項(xiàng)所述的磁盤用基板,其特征在于,僅在通過基板的直徑的剖面形狀中的凹部側(cè)的主表面中,所述主表面的表面粗糙度是0.15nm以下。
8.根據(jù)權(quán)利要求1~7中的任意一項(xiàng)所述的磁盤用基板,其特征在于,僅在通過基板的直徑的剖面形狀中的凹部側(cè)的主表面中,以成為記錄信息的信息記錄面的方式,構(gòu)成表面形狀。
9.一種制造權(quán)利要求1~8中的任意一項(xiàng)所述的磁盤用基板的磁盤用基板的制造方法,其特征在于,具有:對(duì)圓環(huán)狀的玻璃基板進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化的工序;以及對(duì)所述化學(xué)強(qiáng)化后的所述玻璃基板的兩個(gè)主表面進(jìn)行研磨的工序,使所述兩個(gè)主表面的通過研磨實(shí)現(xiàn)的除去厚度不同。
10.一種磁盤,其特征在于,具備:權(quán)利要求1~8中的任意一項(xiàng)所述的磁盤用基板;以及在所述磁盤用基板上直接或者隔著其他層形成的磁性層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的磁盤,其特征在于,僅在通過基板的直徑的剖面形狀中的凹部側(cè)的主表面中,設(shè)置有用于記錄信息的記錄層。
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