[發明專利]用于DNA分子編排的幾何圖案和脂質雙層以及它們的用途

無效

• 申請號: 200980123610.8
• 申請日: 2009-04-22
• 公開（公告）號: CN102066579A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: E·C·格里內
• 申請（專利權）人: 紐約市哥倫比亞大學理事會
• 主分類號: C12Q1/68
• 分類號: C12Q1/68
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 羅菊華

1.陣列，其包括：

(a)固體支持物，其中所述固體支持物包括幾何障礙；

(b)流體脂質雙層，其布置在所述固體支持物上；

(c)至少1個核酸分子；及

(d)連接物，其將所述核酸分子附著于所述脂質雙層。

2.權利要求1的陣列，其中所述障礙是非線性的。

3.權利要求1的陣列，其中所述障礙包括機械障礙，化學障礙，蛋白障礙，或它們的組合。

4.權利要求3的陣列，其中所述機械障礙是所述固體支持物上的劃痕。

5.權利要求3的陣列，其中所述化學障礙包括金屬，金屬氧化物，或它們的組合。

6.權利要求5的陣列，其中所述金屬包括鉻，鋁，金，或鈦。

7.權利要求5的陣列，其中所述金屬氧化物包括氧化鉻，氧化鋁，或氧化鈦。

8.權利要求1的陣列，其中所述障礙包括重復的三角形波。

9.權利要求1的陣列，其中所述障礙通過連接所述幾何障礙的頂點而形成納米孔。

10.權利要求9的陣列，其中所述納米孔包括用于核酸進入的納米小孔。

11.權利要求1的陣列，其中所述連接物在中性親和素與生物素之間形成。

12.權利要求1的陣列，其中通過施加水動力、電泳力或它們的組合使所述核酸分子沿幾何障礙對齊。

13.權利要求1的陣列，其中所述幾何障礙控制所述核酸分子的側向位移。

14.權利要求1的陣列，其中所述幾何障礙通過納米制造產生。

15.權利要求14的陣列，其中所述納米制造包括電子束石印。

16.權利要求1的陣列，其中所述核酸分子的一端通過連接物附著。

17.權利要求16的陣列，其中所述核酸分子沿其輪廓可逆附著于脂質雙層。

18.權利要求1的陣列，其中所述核酸分子的兩端通過連接物附著。

19.權利要求18的陣列，其中所述核酸分子的諸端各通過不同連接物附著。

20.權利要求1的陣列，其中所述核酸分子是DNA分子。

21.權利要求20的陣列，其中所述DNA分子包括約20～約100,000個堿基對。

22.權利要求1的陣列，其中所述核酸分子偶聯到標記物。

23.權利要求22的陣列，其中所述標記物是熒光標記物。

24.權利要求1的陣列，其中所述固體支持物包括SiO2。

25.權利要求1的陣列，其中所述脂質雙層包括兩性離子脂質。

26.微流體流動池，其包括權利要求1的陣列。

27.權利要求26的微流體流動池，其還包括：集結區，雙分叉的納米通道，至少1對平行通道，至少1個小孔，或它們的組合。

28.權利要求26的微流體流動池，其中通過施加水動力、電泳力或它們的組合使權利要求1的核酸分子沿幾何障礙對齊。

29.權利要求28的微流體流動池，其中所述水動力是切向的，垂直的，或它們的組合。

30.權利要求28的微流體流動池，其中所述電泳力是切向的，垂直的，或它們的組合。

31.從多個核酸分離長度特異性核酸的方法，所述方法包括：

(a)提供權利要求26的微流體池，其中所述附著的核酸分子是偶聯到使所述DNA分子可視化的熒光標記物的DNA分子；

(b)施加垂直于所述支持物表面的第一水動力或電泳力，以將所述附著的DNA分子定位到所述納米孔；

(c)施加切向于所述支持物表面的第二水動力或電泳力，以在所述那對平行通道內將所述附著的DNA分子以所需方向對齊；及

(d)可視化所述DNA分子。

32.權利要求31的方法，其任選包括連續施加所述切向于所述支持物表面的第二水動力或電泳力。