[發(fā)明專利]導(dǎo)電性粒子、各向異性導(dǎo)電膜、接合體以及連接方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980123234.2 | 申請(qǐng)日: | 2009-06-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102089832A | 公開(公告)日: | 2011-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石松朋之;大關(guān)裕樹;浜地浩史 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 索尼化學(xué)&信息部件株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01B5/00 | 分類號(hào): | H01B5/00;H01B5/16;H01R11/01;H05K1/14;H05K3/32 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 張晶 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電性 粒子 各向異性 導(dǎo)電 接合 以及 連接 方法 | ||
1.一種包括高分子微粒及形成于所述高分子微粒表面的導(dǎo)電層的導(dǎo)電性粒子,其特征在于,所述導(dǎo)電層的最外層為鎳-鈀合金層。
2.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電性粒子,鎳-鈀合金層厚度為5nm~20nm。
3.如權(quán)利要求1至2任一所述的導(dǎo)電性粒子,鎳-鈀合金層是通過在高分子微粒表面負(fù)載鈀催化劑并使用促進(jìn)劑而形成。
4.如權(quán)利要求1至3任一所述的導(dǎo)電性粒子,導(dǎo)電層具有形成于高分子微粒表面的鍍鎳層。
5.如權(quán)利要求1至4任一所述的導(dǎo)電性粒子,導(dǎo)電層厚度為50nm~150nm。
6.如權(quán)利要求1至5任一所述的導(dǎo)電性粒子,在壓縮變形40%~70%時(shí)的壓縮彈性率為100kgf/mm2~1000kgf/mm2、壓縮變形恢復(fù)率為10%~70%。
7.如權(quán)利要求1至6任一所述的導(dǎo)電性粒子,其還包括以鎳、鈀、鈷及鉻中的至少任一種作為核的突起。
8.如權(quán)利要求1至7任一所述的導(dǎo)電性粒子,其用于氧化銦鋅(IZO,Indium?zinc?oxide)基板的連接。
9.一種包括權(quán)利要求1至8任一所述的導(dǎo)電性粒子及粘合劑的各向異性導(dǎo)電膜,其特征在于,所述粘合劑含有環(huán)氧樹脂及丙烯酸樹脂的至少任一種。
10.如權(quán)利要求9所述的各向異性導(dǎo)電膜,其含有相對(duì)于各向異性導(dǎo)電膜10質(zhì)量%~80質(zhì)量%的苯氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、飽和聚酯樹脂及聚氨酯樹脂中的至少任一種。
11.如權(quán)利要求10所述的各向異性導(dǎo)電膜,其含有通過加熱進(jìn)行活化的潛在性固化劑。
12.如權(quán)利要求10所述的各向異性導(dǎo)電膜,其含有通過加熱產(chǎn)生游離原子團(tuán)的潛在性固化劑。
13.如權(quán)利要求9至12任一所述的各向異性導(dǎo)電膜,固化率在80%以上時(shí),40℃以下的彈性率為0.5GPa以上,且玻璃化溫度為50℃以上。
14.一種接合體,其特征在于,其包括第1電路元件、與所述第1電路元件相向的第2電路元件以及設(shè)置在所述第1電路元件與所述第2電路元件之間的權(quán)利要求9至13任一所述的各向異性導(dǎo)電膜,所述第1電路元件中的電極與所述第2電路元件中的電極通過導(dǎo)電性粒子連接。
15.如權(quán)利要求14所述的接合體,第1電路元件及第2電路元件的至少任一種為IZO基板。
16.一種采用權(quán)利要求9至13任一所述的各向異性導(dǎo)電膜的連接方法,其特征在于,包括:
配設(shè)工序,在第1電路元件與第2電路元件之間配設(shè)所述各向異性導(dǎo)電膜;
擠壓工序,將所述第1電路元件向所述第2電路元件擠壓;以及,
連接工序,將所述第1電路元件中的電極與所述第2電路元件中的電極通過導(dǎo)電性粒子連接。
17.如權(quán)利要求16所述的連接方法,第1電路元件及第2電路元件的至少任一種為IZO基板。
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