[發明專利]噴墨記錄介質有效
| 申請號: | 200980122891.5 | 申請日: | 2009-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN102066121A | 公開(公告)日: | 2011-05-18 |
| 發明(設計)人: | 百田博和;垣平洋;加茂久男 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | B41M5/00 | 分類號: | B41M5/00;B41J2/01;B41M5/50;B41M5/52 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 噴墨 記錄 介質 | ||
技術領域
本發明涉及噴墨記錄介質。
背景技術
對由噴墨記錄系統輸出的記錄圖像存在這樣的要求:在定影性和著色能力上與銀鹽照片或者與由制版系統的多色印刷得到的記錄圖像相當。為了滿足這種要求,作為噴墨記錄系統中使用的噴墨記錄介質已提出了各種記錄介質。例如,已提出了含有水合氧化鋁作為墨接受層的組分的噴墨記錄介質(參見日本專利申請公開No.H07-232475(專利文獻1))。
近年來,已要求在噴墨記錄介質上形成的記錄圖像具有良好的耐光性(light?fastness)和耐氣體性(gas?fastness)。因此,已提出了含有受阻胺化合物作為防圖像褪色劑以改善耐光性和耐氣體性的噴墨記錄介質(參見日本專利申請公開No.H03-013376(專利文獻2))。也已提出了含有五價磷酸衍生物的噴墨記錄介質(參見日本專利申請公開No.2004-188667(專利文獻3))。進而提出了含有五價磷酸鹽(酯)化合物的噴墨記錄介質(參見日本專利申請公開No.2006-123316(專利文獻4))。
發明內容
但是,要求專利文獻1-3中記載的噴墨記錄介質進一步改善耐光性、耐氣體性和均勻墨吸收。專利文獻4中記載的噴墨記錄介質中含有的磷酸鹽(酯)化合物涉及水解傾向的問題,并且在墨接受層的形成中使用水時使噴墨記錄介質上形成的記錄圖像的圖像密度(image?density)降低。因此,當墨接受層中含有磷酸鹽(酯)化合物時需要有機溶劑。
因此本發明的目的在于提供具有近年來要求的高耐光性、耐氣體性和均勻墨吸收的噴墨記錄介質。
為了解決上述問題,本發明人進行了詳細研究以發現了以下發明。
本發明提供噴墨記錄介質,其包括基材和設置在該基材的至少一個表面上的墨接受層,其中該墨接受層含有由以下通式(1)表示的化合物:
其中R1、R2和R3各自為具有1-20個碳原子的直鏈或支化的烷基,條件是R1、R2和R3中的至少一個具有羥基。
根據本發明,能夠提供具有近年來要求的高耐光性、耐氣體性和均勻墨吸收的噴墨記錄介質。
具體實施方式
以下對根據本發明的噴墨記錄介質進行詳細說明。
根據本發明的噴墨記錄介質具有基材和設置在該基材的至少一個表面上的墨接受層。墨接受層含有下述通式(1)表示的化合物:
其中R1、R2和R3各自為具有1-20個碳原子的直鏈或支化的烷基,條件是R1、R2和R3中的至少一個具有羥基。
通式(1)表示的化合物在噴墨記錄介質中用作防圖像褪色劑并且改善得到的記錄圖像的耐候性例如耐光性和耐氣體性。通式(1)表示的化合物在噴墨記錄介質中用作防圖像褪色劑并且改善得到的記錄圖像的耐候性的原因尚不清楚。但是,本發明人認為原因在于如下所述的機理。通式(1)表示的化合物對于通過氙等的照射而在作為墨的組分的染料或顏料的分子中產生的單線態氧具有高猝滅能力。認為這可歸因于通式(1)所示的化合物中的P-C鍵相比P-O鍵和P-S鍵具有高單線態氧猝滅能力的狀況。結果,含有通式(1)所示化合物的噴墨記錄介質與含有磷酸鹽(酯)化合物的噴墨記錄介質相比更能改善得到的記錄圖像的耐候性。
含有通式(1)所示化合物的噴墨記錄介質在墨吸收的均勻性方面也良好。
以下對通式(1)所示化合物的結構進行詳細說明。但是,根據本發明的通式(1)所示的化合物并不限于此。
通式(1)中R1、R2和R3中的至少一個具有羥基,由此通式(1)所示的化合物成為高度水溶性并且能夠添加到噴墨接受層用水性涂布液中,以致將其包含在墨接受層中。
目前為止已提出了具有增溶基團例如-COOM或-SO3M(M表示氫原子或金屬原子)的五價磷酸鹽(酯)化合物。這些化合物為水溶性并且能夠添加到水性噴墨涂布液中。但是,將這些化合物添加到噴墨接受層用水性涂布液以形成記錄介質的接受層時,使記錄介質的表面的pH降低,因此在一些情況下可能使記錄介質的墨吸收性(ink?absorbency)和顏料的分散性劣化以使得到的記錄圖像的圖像質量劣化。
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