[發明專利]圖案形成方法及使用其的裝置的制造方法以及裝置有效
| 申請號: | 200980122586.6 | 申請日: | 2009-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN102067726A | 公開(公告)日: | 2011-05-18 |
| 發明(設計)人: | 藤森茂雄;白澤信彥;谷村寧昭 | 申請(專利權)人: | 東麗株式會社 |
| 主分類號: | H05B33/10 | 分類號: | H05B33/10;B41M5/26;B44C1/17;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/05;H01L51/40;H01L51/50 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 楊宏軍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖案 形成 方法 使用 裝置 制造 以及 | ||
1.一種圖案形成方法,其特征在于,將在基板上形成有光熱轉換層和分區圖案、且在所述分區圖案內存在轉印材料的施主基板與裝置基板對置,用光照射光熱轉換層使所述轉印材料的至少一部分與所述分區圖案的至少一部分同時被加熱,由此將所述轉印材料轉印到裝置基板上。
2.如權利要求1所述的圖案形成方法,其特征在于,用光照射光熱轉換層,所述光的寬度比存在于分區圖案內的轉印材料的寬度寬。
3.如權利要求1或2所述的圖案形成方法,其特征在于,使用存在2種以上的不同轉印材料的施主基板,用光照射光熱轉換層,由此將所述2種以上的不同轉印材料一次全部轉印,所述光的寬度比所述2種以上不同轉印材料各自的寬度與存在于所述轉印材料間的分區圖案的寬度的總和要寬。
4.如權利要求1~3中任一項所述的圖案形成方法,其特征在于,通過分多次對光熱轉換層照射光,將至少一種轉印材料在膜厚方向上分多次進行轉印。
5.如權利要求1~4中任一項所述的圖案形成方法,其特征在于,將至少包含轉印材料和溶劑的溶液涂布到分區圖案內,使所述溶劑干燥后,轉印所述轉印材料。
6.如權利要求5所述的圖案形成方法,其特征在于,至少1種轉印材料在涂布時具有對溶劑為可溶性的基團,涂布后利用熱或光使所述可溶性基團轉化或脫離,之后轉印所述轉印材料。
7.一種裝置的制造方法,其特征在于,通過權利要求1~6中任一項所述的方法將構成裝置的層中的至少1層進行圖案形成。
8.一種裝置,包括基板、形成于所述基板上的絕緣層和至少在所述絕緣層之間形成的薄膜層,將相鄰絕緣層間的開口寬度設為A,將存在于與所述開口對應的區域中的薄膜層的寬度設為E,將絕緣層的間距設為P時,A<E<P,且與寬度方向相鄰的薄膜層間的間隔基本恒定。
9.如權利要求8所述的裝置,其中,A+4(μm)≤E(μm)≤P-10(μm)。
10.如權利要求8或9所述的裝置,其中,薄膜層為發光層,裝置為有機EL元件。
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