[發明專利]電解槽以及用于減少伽馬射線發射的方法

無效

• 申請號: 200980122504.8
• 申請日: 2009-04-22
• 公開（公告）號: CN102066619A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 約翰·A·湯普森
• 申請（專利權）人: 查里斯·E·恩滕曼;約翰·A·湯普森
• 主分類號: C25C3/08
• 分類號: C25C3/08
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張濤

1.一種電解槽，包括：

在其每個端部處開口的非傳導的殼體；

傳導的端部構件，所述傳導的端部構件密封地定位在所述殼體的每個所述開口端部中并且從每個所述開口端部延伸，所述端部構件具有間隔開的近端以與所述殼體協同而在所述近端與所述殼體之間限定室；

催化顆粒，所述催化顆粒緊密地包裝到所述室中并且抵靠每個所述近端，所述催化顆粒包括納米鈀粉末、氧化鋯粉末和伽馬射線發射材料的均勻的摻和物；

端板，所述端板抵靠每個所述端部構件的遠端定位，所述端板可調節地保持在一起并且抵靠所述遠端，由此可調節地建立所述室的長度和所述顆粒的壓縮程度；

縱向氣體通道，所述縱向氣體通道延伸通過與所述室氣體連通的每個所述端部構件，每個所述氣體通道都是能可密封地關閉的，一個所述氣體通道能連接到加壓的氫氣或者氘氣源，所述氫氣或者氘氣能在壓力下輸送到所述室中；

每個所述端部構件的遠端都能連接到電源，其中，當電流流過所述端部構件和用所述催化顆粒和所述氣體填充的所述室時，來自所述伽馬射線發射材料的伽馬射線發射比其已知的衰變率顯著更快地衰變。

2.一種用于使放射性材料的放射性衰變加速的伽馬射線減少設備，包括：

室，所述室包括限定所述室的非傳導的側壁和間隔開且電隔離的傳導的端面；

催化顆粒，所述催化顆粒緊密地包裝到所述室中并且抵靠每個所述傳導的端面，所述催化顆粒包括鈀黑粉末和惰性的非傳導的二氧化鋯顆粒、以及伽馬射線發射材料的均勻的混合物；

與所述室氣體連通的縱向氣體通道，所述氣體通道能連接到加壓的氫氣(H₂)或氘氣(D₂)的源，所述加壓的氫氣或氘氣能輸送到所述室中以用于在所述設備的操作之前充入所述傳導的顆粒并且填充所述室；

每個所述端面能連接到電源，其中，當電流流過所述室、所述催化顆粒和所述氣體時，在所述室內產生熱以用于外部使用，并且來自所述伽馬射線發射材料的伽馬射線發射比其已知的衰變率顯著更快地衰變。

3.一種使伽馬射線發射物質的放射性衰變加速的方法，所述方法包括：

A.提供一種設備，所述設備包括：

室，所述室包括限定所述室的非傳導的側壁和間隔開且電隔離的傳導的端面；

催化顆粒，所述催化顆粒緊密地包裝到所述室中并且抵靠每個所述傳導的端面，所述催化顆粒包括鈀黑粉末、惰性的非傳導的顆粒、以及伽馬射線發射材料的均勻的混合物；

與所述室氣體連通的縱向氣體通道；

B.將所述氣體通道連接到加壓的氫氣(H₂)或氘氣(D₂)的源，并且輸送所述氣體到所述室中以用于在所述設備的操作之前充入所述傳導的顆粒并填充所述室；

C.施加電源到每個所述端面，其中，電流流過所述室、所述催化顆粒和所述氣體；

D.監控來自所述催化顆粒的伽馬射線發射，而同時操作所述設備，直到伽馬射線發射顯著減少。