[發(fā)明專利]偏壓濺射裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980122366.3
• 申請日: 2009-06-16
• 公開（公告）號: CN102066602A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 菅原聡;枝并泰宏;高橋一樹;熊川進(jìn);姜友松;塩野一郎;高坂佳弘
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社新柯隆
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/50;H01L21/285
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種偏壓濺射裝置，該偏壓濺射裝置具備：基板支架，其具有自轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，用于在真空容器內(nèi)支承基板；基板電極，其設(shè)置在該基板支架側(cè)；以及靶材，其與上述基板相對地配置，該偏壓濺射裝置對上述基板電極和上述靶材施加電力，在上述基板電極與上述靶材之間產(chǎn)生等離子體，在上述基板表面形成薄膜，

該偏壓濺射裝置的特征在于，

僅在支承在上述基板支架上的上述基板的各個背面?zhèn)龋邆渖鲜龌咫姌O，

上述基板電極與上述基板以隔開規(guī)定距離的方式配置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏壓濺射裝置，其特征在于，

上述基板電極與上述基板之間的上述規(guī)定距離是0.5mm以上10mm以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏壓濺射裝置，其特征在于，

上述基板支架構(gòu)成為具有：公轉(zhuǎn)部件，其相對于上述真空容器進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及自轉(zhuǎn)支架，其相對于該公轉(zhuǎn)部件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并且能支承上述基板，

上述基板電極支承在一端部側(cè)與外部電源直接或間接連接的布線部件的另一端側(cè)，并且相對于上述自轉(zhuǎn)支架和上述公轉(zhuǎn)部件中的任意一個都絕緣。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏壓濺射裝置，其特征在于，

上述基板支架構(gòu)成為具有：公轉(zhuǎn)部件，其相對于上述真空容器進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及自轉(zhuǎn)支架，其相對于上述公轉(zhuǎn)部件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并能支承上述基板，

上述基板電極支承在一端部側(cè)與外部電源直接或間接連接的布線部件的另一端側(cè)，并且相對于上述自轉(zhuǎn)支架和上述公轉(zhuǎn)部件中的任意一個都絕緣，

能通過改變上述布線部件相對于上述公轉(zhuǎn)部件的安裝位置，來調(diào)整上述基板電極與上述基板之間的上述規(guī)定距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏壓濺射裝置，其特征在于，

上述基板支架構(gòu)成為具有：公轉(zhuǎn)部件，其相對于上述真空容器進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及自轉(zhuǎn)支架，其相對于上述公轉(zhuǎn)部件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并能支承上述基板，

上述基板電極支承在一端部側(cè)與外部電源直接或間接連接的布線部件的另一端側(cè)，并且相對于上述自轉(zhuǎn)支架和上述公轉(zhuǎn)部件中的任意一個都絕緣，

能通過改變上述布線部件相對于上述公轉(zhuǎn)部件的安裝位置，來調(diào)整上述基板電極與上述基板之間的上述規(guī)定距離，

上述自轉(zhuǎn)支架在與上述基板電極接近的規(guī)定部分的表面具有絕緣性涂層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏壓濺射裝置，其特征在于，

上述基板支架具有：公轉(zhuǎn)部件，其相對于上述真空容器進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及自轉(zhuǎn)支架，其相對于該公轉(zhuǎn)部件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并能支承上述基板，

上述自轉(zhuǎn)支架相對于上述公轉(zhuǎn)部件絕緣，

上述基板電極安裝在上述自轉(zhuǎn)支架側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏壓濺射裝置，其特征在于，

上述基板支架具有：公轉(zhuǎn)部件，其相對于上述真空容器進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；以及自轉(zhuǎn)支架，其相對于該公轉(zhuǎn)部件進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，并能支承上述基板，

上述自轉(zhuǎn)支架相對于上述公轉(zhuǎn)部件絕緣，并且經(jīng)由與上述自轉(zhuǎn)支架側(cè)抵接的軸承而被提供電力，

上述基板電極安裝在上述自轉(zhuǎn)支架側(cè)。