[發明專利]流體伺服及應用有效
| 申請號: | 200980121986.5 | 申請日: | 2009-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN102057168A | 公開(公告)日: | 2011-05-11 |
| 發明(設計)人: | 喬納森·塞巴斯蒂安·豪斯 | 申請(專利權)人: | 等熵有限公司 |
| 主分類號: | F15B15/14 | 分類號: | F15B15/14;F15B15/22 |
| 代理公司: | 上海金盛協力知識產權代理有限公司 31242 | 代理人: | 段迎春 |
| 地址: | 英國*** | 國省代碼: | 英國;GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流體 伺服 應用 | ||
1.一種由流體壓力操作的致動器裝置,包括:
界定出第一腔室的本體,所述第一腔室包括與加壓流體源流體連通的入口;及
安裝在所述第一腔室中的可移動元件,所述可移動元件包括操作端和分區機構,所述分區機構配置為在使用所述裝置期間分割所述第一腔室中包括所述入口的第一區域和所述第一腔室中與所述第一區域相對的第二區域,所述可移動元件可相對于所述本體在延伸形態和回縮形態之間移動,可響應所述分區機構上的壓力差而發生從所述回縮形態到所述延伸形態的移動;
其中,所述致動器裝置包括第一通路以允許流體從所述加壓流體源流通至所述可移動元件的操作端中的第二腔室,以及第二通路以允許流體從所述第二腔室流通至所述第一腔室的第二區域,所述操作端配置為當所述可移動元件處于回縮形態時允許所述第二腔室中的流體在所述操作端與目標表面之間通過,并且配置為當所述可移動元件處于延伸形態時接靠所述目標表面以基本上限制所述操作端與所述目標表面之間的流體通路。
2.如權利要求1所述的致動器裝置,其中所述致動器裝置還包括偏壓機構以用于偏壓處于所述回縮形態的所述可移動元件。
3.如權利要求2所述的致動器裝置,其中所述偏壓機構提供偏壓力,所述偏壓力隨著所述可移動元件從所述回縮形態移動至所述延伸形態而增大。
4.如前述權利要求中任一項所述的致動器裝置,其中所述分區機構配置為從所述第二區域基本密封所述第一區域。
5.如前述權利要求中任一項所述的致動器裝置,其中所述第一腔室包括氣缸,并且所述分區機構包括可在所述氣缸內在延伸位置和回縮位置之間移動的活塞,所述可移動元件的操作端可通過軸連接至所述活塞。
6.如前述權利要求中任一項所述的致動器裝置,其中所述可移動元件包括撓性膜。
7.如權利要求6所述的致動器裝置,其中所述可移動元件包括這樣的撓性膜,其配置為隨著所述膜在非平面形態與更平面形態之間移動而徑向擴張。
8.如前述權利要求中任一項所述的致動器裝置,還包括另一如前所述的可移動元件,所述另一可移動元件的第一通路與所述首先提及的可移動元件的第一腔室的第二區域流體連通。
9.如前述權利要求中任一項所述的致動器裝置,其中所述可移動元件的操作端配置為提供對著所述目標表面的密封動作。
10.如權利要求1~8中任一項所述的致動器裝置,其中所述可移動元件的操作端配置為提供軸承面。
11.如權利要求1~8中任一項所述的致動器裝置,其中所述可移動元件的操作端配置為提供傳感器。
12.如權利要求11所述的致動器裝置,其中所述操作端配置為提供位置傳感器。
13.一種相對于第二部分密封第一部分的機構,所述機構包括如權利要求1~8中任一項所限定之致動器裝置,所述致動器裝置具有配置為提供密封動作的操作端。
14.如權利要求13所述的密封機構,其中所述致動器裝置的操作端沿所述密封機構的外圍延伸。
15.如權利要求14所述的密封機構,其中所述第二腔室包括沿所述致動器裝置的操作端延伸的連續槽。
16.一種包括如權利要求1~8中任一項所限定之致動器裝置的軸承機構,所述致動器裝置具有配置為提供軸承面的操作端。
17.如權利要求16所述的軸承機構,包括另一如權利要求1~8中任一項所限定的致動器裝置,其中所述首先提及的致動器裝置和所述另一致動器裝置位于可旋轉體的相對橫向兩側。
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