[發明專利]光化學反應器、發光屏和光化學處理系統無效
| 申請號: | 200980121765.8 | 申請日: | 2009-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN102056848A | 公開(公告)日: | 2011-05-11 |
| 發明(設計)人: | U.基特卡;G.格魯爾;S.格魯爾克 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/32 | 分類號: | C02F1/32 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 謝建云;劉鵬 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光化學 反應器 發光 處理 系統 | ||
1.?一種用于流體(30)的光化學反應器(10,12,14,16),該光化學反應器(10,12,14,16)包括:
容器(20),其包括流體(30),
光源(40),其用于產生UV輻射(UV1)并將該UV輻射朝向流體(30)發射,以及
發光材料(50),其至少部分地設置在光源(40)與流體(30)之間以用于將由光源(30)發射的UV輻射(UV1)的至少一部分轉換為與該UV輻射(UV1)相比具有增加的波長的另一UV輻射(UV2),
發光材料(50)可拆卸地連接到光化學反應器(10,12,14,16)并且與光源(40)隔開。
2.?如權利要求1所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中光源(40)可拆卸地連接到光化學反應器(10,12,14,16)并且與發光材料(50)隔開。
3.?如權利要求1或2所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中光化學反應器(10,12,14,16)包括發光屏(22,52),該發光屏包括發光材料(50)。
4.?如權利要求1或2所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中另一流體(30,35)可以在光源(40)與發光材料(50)之間流動。
5.?如權利要求3所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中另一流體(30)與所述流體(30)相同。
6.?如前述權利要求中任一項所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中所述流體(30)流過光化學反應器(10,12,14,16)。
7.?如前述權利要求中任一項所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中光源(40)是介質阻擋放電燈(40)。
8.?如前述權利要求中任一項所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中光源(40)設置在具有對于UV輻射(UV1)是至少部分透明的壁的保護套(22)中,發光材料(50)設置在保護套(22)的壁上。
9.?如前述權利要求中任一項所述的光化學反應器(10,12,14,16),其中UV輻射(UV1)包括低于200納米的波長,并且其中另一UV輻射(UV2)包括低于300納米的波長。
10.?用在如前述權利要求中任一項所述的光化學反應器(10,12,14,16)中的包括發光材料(50)的發光屏(22,52)。
11.?如權利要求10所述的發光屏(22,52),其中發光材料(50)設置在發光屏(22,52)上,和/或其中發光材料(50)嵌在發光屏(22,52)中,和/或其中發光屏(22,52)由發光材料(50)構成。
12.?用于光化學地處理流體(30)中的污染的光化學處理系統(100),該光化學處理系統(100)包括如權利要求1-9中所述的光化學反應器(10,12,14,16),并且包括用于控制由光源(40)發射的光的強度和/或用于控制流體(30)流過光化學反應器(10,12,14,16)的速度和/或用于分析在光化學反應器(10,12,14,16)中處理之前和/或之后流體(30)的污染水平的處理器(110)。
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