[發(fā)明專利]多級微流體系統(tǒng)和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980121050.2
• 申請日: 2009-04-09
• 公開（公告）號: CN102056838A
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發(fā)明（設計）人: 杰弗里·費塞;布賴恩·福勒;埃默森·張·全;馬克·恩格
• 申請（專利權）人: 弗盧丁公司
• 主分類號: B81B3/00
• 分類號: B81B3/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳小明

1.一種微流體裝置，其包括：

第一流動通道，其在基板的第一層中形成；

第一控制通道，其在基板的第二層中形成，其中所述第二層鄰近所述第一層；和

第二流動通道，其在基板的第三層中形成，其中所述第三層鄰近所述第二層；

其中所述第一控制通道內的壓力變化調節(jié)所述第一和第二流動通道內的流體流動。

2.根據權利要求1所述的微流體裝置，所述微流體裝置還包括沿所述第一流動通道安置的第一隔離閥門，其中所述第一控制通道控制所述第一隔離閥門的運行。

3.根據權利要求2所述的微流體裝置，其中所述第一隔離閥門包括可偏轉膜。

4.根據權利要求1所述的微流體裝置，所述微流體裝置還包括沿所述第二流動通道安置的第二隔離閥門，其中所述第一控制通道控制所述第二隔離閥門的運行。

5.根據權利要求4所述的微流體裝置，其中所述第二隔離閥門包括可偏轉膜。

6.根據權利要求1所述的微流體裝置，所述微流體裝置還包括至少部分地安置在所述第一層內的第一室，其中所述第一室與所述第一流體通道流體連通。

7.根據權利要求1所述的微流體裝置，所述微流體裝置還包括至少部分地安置在所述第一層內的第二室，其中所述第二室與所述第二流體通道流體連通。

8.根據權利要求1所述的微流體裝置，其中所述第一控制通道內的壓力變化同時調節(jié)所述第一和第二流動通道內的流體流動。

9.根據權利要求1所述的微流體裝置，其中所述基板包含彈性體材料。

10.一種微流體裝置，其包括：

基板，其具有第一層，第二層和第三層，其中所述第二層安置在所述第一層和第三層之間；

第一室，其至少部分地形成在所述基板的所述第一層內；

第二室，其至少部分地形成在所述基板的所述第一層內；和

第一控制通道，其形成在所述基板的所述第二層中；

其中所述第一控制通道內的壓力變化調節(jié)通過所述第一層并且進入到所述第一室中的第一流體流動，并且還調節(jié)通過所述第三層并且進入到所述第二室中的第二流體流動。

11.根據權利要求10所述的微流體裝置，所述微流體裝置還包括界面通道，所述界面通道在所述第一室和所述第二室之間提供流體連通。

12.根據權利要求11所述的微流體裝置，其中所述界面通道形成在所述第三層中。

13.根據權利要求11所述的微流體裝置，其中所述界面通道與所述第二流動通道流體連通。

14.根據權利要求12所述的微流體裝置，所述微流體裝置還包括沿所述界面通道安置的界面閥門，其中所述界面閥門調節(jié)在所述第一室和所述第二室之間通過所述界面通道的流動。

15.根據權利要求14所述的微流體裝置，其中所述界面閥門包括可偏轉膜。

16.一種微流體裝置，其包括：

第一流動通道，其形成在基板的第一層中；

第一室，其與所述第一流動通道流體連通；

沿所述第一通道安置的第一隔離閥門，其中所述第一隔離閥門包括在鄰近所述第一層的所述彈性體基板的第二層中形成的控制通道的第一部分，并且配置來控制通過所述第一流動通道進入到所述第一室中的流動；

第二流動通道，其在鄰近所述第二層的所述基板的第三層中形成；

第二室，其與所述第二流動通道流體連通；

沿所述第二流動通道安置的第二隔離閥門，其中所述第二隔離閥門包括在所述基板的第二層中形成的所述控制通道的第二部分，并且配置來控制通過所述第二流動通道進入到所述第二室中的流動；

反應通道，其形成在所述基板的所述第三層中，與所述第一室和所述第二室流體連通；

沿在所述第一室和所述第二室之間的反應通道安置的界面閥門，其中所述界面閥門包括在鄰近所述第三層的所述基板的第四層中形成的界面通道的一部分，并且配置來控制通過所述反應通道的流動。

17.根據權利要求16所述的微流體裝置，其中所述第一隔離閥門包括可偏轉膜。

18.根據權利要求16所述的微流體裝置，其中所述第二隔離閥門包括可偏轉膜。