[發明專利]核—殼粒子的制造方法、核—殼粒子、中空粒子的制造方法、涂料組合物及物品無效
| 申請號： | 200980120903.0 | 申請日： | 2009-06-03 |
| 公開（公告）號： | CN102046522A | 公開（公告）日： | 2011-05-04 |
| 發明（設計）人： | 河合洋平;米田貴重 | 申請（專利權）人： | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號： | C01B13/14 | 分類號： | C01B13/14;C01B33/18;C01G9/08;C01G19/00;C01G23/047;C09D7/12;C09D201/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 馮雅;胡燁 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 粒子 制造 方法 中空 涂料 組合 物品 | ||
1.一種核—殼粒子的制造方法，其特征在于，對包含由介電常數在10以上的材料形成的核粒子和金屬氧化物前體的液體照射微波，在所述核粒子的表面形成由金屬氧化物形成的殼。
2.如權利要求1所述的核—殼粒子的制造方法，其特征在于，所述核粒子是氧化鋅粒子、氧化鈦粒子或摻雜有銦的氧化錫粒子。
3.如權利要求1或2所述的核—殼粒子的制造方法，其特征在于，所述金屬氧化物前體是烷氧基硅烷。
4.如權利要求1～3中的任一項所述的核—殼粒子的制造方法，其特征在于，微波的輸出功率是將包含由介電常數在10以上的材料形成的核粒子和金屬氧化物前體的所述液體加熱至30～500℃的輸出功率。
5.如權利要求1～4中的任一項所述的核—殼粒子的制造方法，其特征在于，所述核粒子的平均凝集粒徑為1～1000nm。
6.如權利要求1～5中的任一項所述的核—殼粒子的制造方法，其特征在于，所述核—殼粒子的殼的厚度為1～500nm。
7.如權利要求1～6中的任一項所述的核—殼粒子的制造方法，其特征在于，所述核—殼粒子的平均凝集粒徑為3～1000nm。
8.一種核—殼粒子，其特征在于，通過權利要求1～7中的任一項所述的制造方法得到。
9.一種中空粒子的制造方法，其特征在于，使通過權利要求1所述的制造方法得到的核—殼粒子的核粒子溶解或分解。
10.如權利要求9所述的中空粒子的制造方法，其特征在于，所述核粒子是氧化鋅粒子。
11.如權利要求9或10所述的核—殼粒子的制造方法，其特征在于，所述金屬氧化物前體是烷氧基硅烷。
12.一種涂料組合物，其特征在于，包含通過權利要求9～11中的任一項所述的制造方法得到的中空粒子和分散介質。
13.一種物品，其特征在于，在基材上形成有由權利要求12所述的涂料組合物形成的涂膜。
14.如權利要求13所述的物品，其特征在于，所述涂膜的反射率為0.0～1.4％。
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