[發明專利]較高階色散補償設備有效
| 申請號: | 200980120113.2 | 申請日: | 2009-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN102047150A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發明(設計)人: | G·黑特胡夫特;B·H·W·亨德里克斯;M·梅根斯 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/00 | 分類號: | G02B5/00;G02B27/09 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李亞非;劉鵬 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 較高階 色散 補償 設備 | ||
1.一種較高階色散補償設備(210),該設備適于與光學部件配對(P1,P2)協作,所述光學部件被設置成通過在空間上分開不同的波長而補償一階色散,所述補償設備具有相位板的形式,其中通過在板的相應位置設計高度以便基本上補償較高階色散來調節對于每個波長的相位變化。
2.依照權利要求1的設備,其中高度與位置的函數(h(x))至少在板(210)的一些部分上是基本上連續的函數。
3.依照權利要求1的設備,其中所述設備(210)至少在板的一些部分上具有基本上平面的后表面以及帶有階梯狀高度的前表面。
4.依照權利要求3的設備,其中高度與位置的函數(h(x))至少在板(210)的一些部分上是單調遞增的函數。
5.依照權利要求1的設備,其中所述設備適于與基本上相同的部件的配對協作。
6.依照權利要求5的設備,其中相位變化與整個設備上的位置x的函數以及高度與整個設備上的位置的函數h(x)之間的關系可以以下面的形式給出
其中函數F依賴于:
λ:波長
O_Pa:光路
RP:板與光學部件配對的相對位置,以及
O_Prop:光學部件配對的光學特性。
7.依照權利要求6的設備,其中所述光學部件配對是棱鏡配對,并且所述光學部件配對的光學特性O_Prop包括棱鏡的折射率n以及棱鏡的頂角。
8.依照權利要求6的設備,其中所述光學部件配對是光柵配對,并且所述光學部件配對的光學特性O_Prop包括這些光柵的光柵常數k。
9.依照權利要求1的設備,其中所述設備基本上以聚合體,優選地以PMMA、PC、COC或者以一定類型的玻璃制造。
10.依照權利要求1的設備,其中所述設備利用可UV固化樹脂在透明襯底上制造。
11.一種用于補償色散的光學系統(200);該系統包括:
-被設置成通過在空間上分開不同的波長而補償一階色散的光學部件配對(P1,P2),以及
-較高階色散補償設備(210),該補償設備具有相位板的形式,其中通過在板的相應位置設計高度以便基本上補償較高階色散來調節對于每個波長的相位變化,
其中較高階色散補償設備適于通過考慮至少;
所述光學部件配對的光學特性(O_Prop),以及
較高階色散補償設備與所述光學部件配對之間的相對位置(RP)而與該光學部件配對協作。
12.依照權利要求11的光學系統,其中高度分布依賴于較高階色散補償設備與所述光學部件配對之間的相對位置,包括到每個光學部件的距離(l)和入射角(θ)。
13.依照權利要求11的光學系統,其中所述光學部件配對是基本上相同的棱鏡配對,并且該棱鏡配對的光學特性(O_Prop)包括折射率n和棱鏡中折射率的依賴于波長的部分。
14.依照權利要求11的用于補償色散的光學系統,所述系統應用到利用非線性光學現象的光學成像系統中,例如應用到多光子成像系統或者二次諧波生成(SHG)成像系統中。
15.一種用于補償色散的方法,該方法包括:
-提供被設置成通過在空間上分開不同的波長而補償一階色散的光學部件配對(P1,P2),以及
-提供較高階色散補償設備(210),該補償設備具有相位板的形式,其中通過在板的相應位置設計高度以便基本上補償較高階色散來調節對于每個波長的相位變化,
該方法還包括使較高階色散補償設備適于通過考慮至少;
所述光學部件配對的光學特性(O_Prop),以及
較高階色散補償設備與所述光學部件配對之間的相對位置(RP)而與該光學部件配對協作。
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