[發(fā)明專利]低密度紙板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980119314.0 | 申請(qǐng)日： | 2009-03-31 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102046881A | 公開（公告）日： | 2011-05-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | G·P·富吉特;T·J·格林;S·G·布什豪斯;S·帕克;J·R·霍根;S·金瑟;W-H·何 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 米德韋斯瓦科公司 |
| 主分類號(hào)： | D21H11/04 | 分類號(hào)： | D21H11/04;D21H17/63;D21H17/67;D21H19/20;D21H19/36;D21H19/54 |
| 代理公司： | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 曹小剛;李連濤 |
| 地址： | 美國(guó)弗*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 密度 紙板 | ||
1.紙板，包括：
固態(tài)漂白的硫酸鹽(SBS)紙板基底；和
施加到所述紙板基底上的涂層以形成涂覆結(jié)構(gòu)，所述涂覆結(jié)構(gòu)具有紙張定量、紙張厚度和Parker?Print?Surf光滑度，所述Parker?Print?Surf光滑度為至多約3微米，所述紙張定量為至多約Y1磅/3000ft2，其中Y1是以點(diǎn)為單位的所述紙張厚度(X)的函數(shù)，且如下計(jì)算：
Y1＝3.79+13.43X-0.1638X2。
2.權(quán)利要求1的紙板，其中所述涂層包括至少底涂層和頂涂層，其中所述底涂層位于所述頂涂層和所述SBS紙板基底之間。
3.權(quán)利要求2的紙板，其中所述涂層進(jìn)一步包括位于所述底涂層和所述頂涂層之間的中間涂層。
4.權(quán)利要求1的紙板，其中所述涂層包括淀粉。
5.權(quán)利要求1的紙板，其中所述涂層包括粗的磨碎的碳酸鈣和高縱橫比粘土。
6.權(quán)利要求1的紙板，其中所述紙張定量至多約為Y2磅/3000ft2，其中Y2如下計(jì)算：
Y2＝3.71+13.14X-0.1602X2。
7.權(quán)利要求1的紙板，其中所述紙張定量至多約為Y3磅/3000ft2，其中Y3如下計(jì)算：
Y3＝3.63+12.85X-0.1566X2。
8.權(quán)利要求1的紙板，其中所述紙張定量至多約為Y4磅/3000ft2，其中Y4如下計(jì)算：
Y4＝3.50+12.41X-0.1513X2。
9.權(quán)利要求1的紙板，其中所述Parker?Print?Surf光滑度至多為約2.5微米。
10.權(quán)利要求1的紙板，其中所述Parker?Print?Surf光滑度至多為約2.0微米。
11.權(quán)利要求1的紙板，其中所述Parker?Print?Surf光滑度至多為約1.5微米。
12.權(quán)利要求1的紙板，其中所述涂層包括至少一種顏料，和其中所述涂層中每種所述顏料是無(wú)機(jī)顏料。
13.權(quán)利要求1的紙板，限制條件是所述SBS紙板基底基本上不含化學(xué)蓬松劑。
14.權(quán)利要求1的紙板，其中所述SBS紙板基底具有至少85磅/3000ft2的紙張定量。
15.權(quán)利要求1的紙板，其中所述SBS紙板基底是單層式基底。
16.權(quán)利要求1的紙板，其中所述SBS紙板基底基本上由化學(xué)紙漿構(gòu)成。
17.紙板，包括：
固態(tài)漂白的硫酸鹽(SBS)紙板基底；和
施加到所述紙板基底上的涂層以形成涂覆結(jié)構(gòu)，所述涂覆結(jié)構(gòu)具有紙張定量、紙張厚度和Parker?Print?Surf光滑度，所述Parker?Print?Surf光滑度為至多約3微米，所述紙張定量為至多約Y1′磅/3000ft2，其中Y1′是以點(diǎn)為單位的所述紙張厚度(X)的函數(shù)，且如下計(jì)算：
Y1′＝36.26+8.342X+0.01629X2。
18.權(quán)利要求17的紙板，其中所述紙張定量至多約為Y2′磅/3000ft2，其中Y2′如下計(jì)算：
Y2′＝35.55+8.173X+0.01602X2。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于米德韋斯瓦科公司，未經(jīng)米德韋斯瓦科公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200980119314.0/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
