[發明專利]防反射膜及其制造方法

無效

• 申請號: 200980119097.5
• 申請日: 2009-05-12
• 公開（公告）號: CN102047149A
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發明（設計）人: 佐藤一也;松本司;渡邊裕;六波羅淳
• 申請（專利權）人: DNP精細化工股份有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;B29C33/38;B29C59/02;B29L11/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 丁香蘭;龐東成

技術領域

本發明涉及具有特定的表面形狀和物性的防反射膜，具體而言，涉及防止光的反射、并且光的透射得到了改善的防反射膜，更具體而言，涉及可對顯示器等賦予良好的可視性的防反射膜、及其制造方法。

背景技術

液晶顯示器(LCD)、等離子顯示器(PDP)等平板顯示器(以下，簡稱為“FPD”)等為了確保其可視性而必須安裝防反射膜。作為該防反射膜，一直使用的有：(1)由通常被稱為干法的方法得到的防反射膜，即，通過氣相工藝制作多層介質膜，利用光學干涉效果實現低反射率的防反射膜；(2)由通常被稱為濕法的方法得到的防反射膜，即，在基板薄膜上包覆有低折射率材料的防反射膜等；另外，作為在原理上與上述方法完全不同的技術，還已知(3)通過對表面賦予微細結構，從而表現出低反射率的技術(專利文獻1～專利文獻10)。

對于上述(3)的通過賦予微細結構而提高防反射膜的性能的方法進行了多種研究，例如有以下方法等：將鋁通過陽極氧化而形成陽極氧化被膜，并對該陽極氧化被膜進行蝕刻，將上述陽極氧化被膜的形成與蝕刻組合而制成模，并將其形狀轉印到防反射膜上(專利文獻11～專利文獻13)。

然而，對于這些防反射膜來說，不僅光的防反射性能不充分，尤其是光的透射性能也不充分，期待進一步的提高。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開昭50-070040號公報

專利文獻2：日本特開平9-193332號公報

專利文獻3：日本特開2003-162205號公報

專利文獻4：日本特開2003-215314號公報

專利文獻5：日本特開2003-240903號公報

專利文獻6：日本特開2004-004515號公報

專利文獻7：日本特開2004-059820號公報

專利文獻8：日本特開2004-059822號公報

專利文獻9：日本特開2005-010231號公報

專利文獻10：日本特開2005-092099號公報

專利文獻11：日本特開2003-043203號公報

專利文獻12：日本特開2005-156695號公報

專利文獻13：日本特開2007-086283號公報

發明內容

本發明是鑒于上述背景技術而實施的，其課題在于發現具有優異的光的防反射性能或優異的光的透射性能的防反射膜所要求的表面形狀和物性，并提供具有該特定的表面形狀和物性的防反射膜以及該防反射膜的制造方法。

本發明人為了解決上述課題而進行了深入研究，結果發現，在對鋁實施軋制加工時所產生的加工應力、或基于加工自身的表面的不均勻性、制造過程中來自環境的影響，例如加工時混入的灰塵或污染物質所引起的表面的不均勻性等，會導致經利用該鋁材料得到的模轉印所獲得的防反射膜的性能的降低。并且，為了解決該課題，發現通過預先對鋁材料的表面進行精加工，可以獲得具有所期望的性能的防反射膜，尤其是具有優異的透射性的防反射膜，由此完成了本發明。

即，本發明提供一種防反射膜，其特征在于，其通過以下方式獲得：利用機械研磨、化學研磨和/或電解研磨對鋁材料的表面進行加工后，通過陽極氧化與陽極氧化被膜的蝕刻的組合制作在該鋁材料的表面具有錐形細孔的模，并將該模轉印到防反射膜形成材料上，由此獲得防反射膜；該獲得的防反射膜表面具有平均高度100nm以上且1000nm以下的凸部或平均深度100nm以上且1000nm以下的凹部，該凸部或凹部至少在某一方向以平均周期50nm以上且400nm以下存在，且所述防反射膜的霧度為15％以下。

另外，本發明提供一種具有錐形細孔的模，其特征在于，其為具有上述防反射膜形成用的錐形細孔的模，其通過陽極氧化與蝕刻的組合而制作，所述陽極氧化在草酸濃度0.01M以上且0.5M以下、施加電壓20V以上且120V以下、并且液溫0℃以上且50℃以下進行，所述蝕刻在磷酸濃度1重量％以上且20重量％以下、液溫30℃以上且90℃以下進行，并且1次的處理時間為1分鐘以上且60分鐘以下。

根據本發明，能夠提供光的防反射性能、光的透射性能等優異的防反射膜。具體而言，例如能夠提供FPD等的表面層等的防反射膜、透射性改良膜、表面保護膜等，特別是能夠提供光的透射性能優異的防反射膜。

附圖說明

圖1所示為本發明的防反射膜的制造方法的一個例子的示意圖。