[發明專利]用于感應加熱旋轉對稱的部件的裝置及其方法

無效

• 申請號: 200980117486.4
• 申請日: 2009-03-11
• 公開（公告）號: CN102027141A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發明（設計）人: 馬科·博特肯;邁克爾·瓊
• 申請（專利權）人: SKF公司
• 主分類號: C21D1/10
• 分類號: C21D1/10;C21D9/40;H05B6/38;F16C33/64
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 侯宇

1.一種用于加熱工件旋轉對稱的殼體表面的至少一個軸向區段的裝置，包括以下特征：

-可以使工件繞其旋轉軸線旋轉的旋轉器件，以及

-一個感應器，其至少在一個為了與所述區段相對置而設置的區域內的軸向長度小于所述區段的軸向長度，該感應器具有一個為了與所述區段相隔一定距離地相對置而設的部位，該感應器設計為可以這樣運動，即，使得與所述區段間隔一定距離的所述部位可以沿所述區段的縱向輪廓移動。

2.按權利要求1所述的裝置，其中，所述感應器設計為環狀。

3.按權利要求1或2所述的裝置，其中，所述感應器設計為單圈的感應線圈。

4.按權利要求1至3之一所述的裝置，其中，通過所述旋轉器件，所述工件可以繞其大約垂直定向的旋轉軸線轉動。

5.按權利要求1至4之一所述的裝置，其中，所述感應器可以這樣運動，使得該運動由一個沿旋轉軸線方向的任一分量和一個垂直于該旋轉軸線方向的分量組合而成。

6.按權利要求1至5之一所述的裝置，其中，所述用于加熱的感應器設計為可以帶有沿垂直方向的運動分量地從下向上運動。

7.按權利要求1至6之一所述的裝置，其中，所述裝置包括一個淬火裝置，其可以跟隨所述感應器的所述部位的運動相應地運動。

8.按權利要求7所述的裝置，其中，所述淬火裝置布置在所述感應器的下方。

9.按權利要求1至8之一所述的裝置，其中，所述工件是空心的，并且用一個可以相應于所述感應器的所述部位運動的冷卻裝置冷卻在所述工件壁另一側上與各個被加熱的殼體表面區域相對置的殼體表面區域。

10.按權利要求1至9之一所述的裝置，其中，所述區段不是圓柱面形。

11.按權利要求1至10之一所述的裝置，其中，所述區段呈截錐面狀。

12.按權利要求1至11之一所述的裝置，其中，所述區段屬于所述工件的外殼表面。

13.按權利要求1至11之一所述的裝置，其中，所述區段屬于空心圓柱體形工件的內殼表面，并且所述感應器具有直徑小于該區段的外殼表面。

14.按權利要求1至13之一所述的裝置，其中，所述區段屬于圓錐滾子軸承的內部或外部滾道元件的滾動表面區域。

15.一種用于加熱工件旋轉對稱的殼體表面的至少一個軸向區段的方法，其包括下列步驟：

-使所述工件繞其旋轉軸線轉動，并且

-使一個感應器以一個與所述區段間隔一定距離地相對置的部位，沿所述區段的縱向輪廓與該區段間隔一定距離地移動，其中，該感應器至少在一個與所述區段相對置的區域內的沿軸向的軸向長度小于所述區段的軸向長度。

16.按權利要求15所述的方法，其中，使所述工件繞其大約垂直定向的旋轉軸線轉動。

17.按權利要求15或16所述的方法，其中，所述感應器這樣運動，即，使得該運動由一個沿旋轉軸線方向的任一分量和一個垂直于該旋轉軸線方向的分量組合而成。

18.按權利要求15至17之一所述的方法，其中，所述用于加熱的感應器帶有沿垂直方向的運動分量地從下向上運動。

19.按權利要求15至18之一所述的方法，其中，所述裝置包括一跟隨所述感應器的所述部位的運動相應運動的淬火裝置。

20.按權利要求15至19之一所述的方法，其中，所述工件是空心的，并且用一個相應于所述感應器的所述部位運動的冷卻裝置冷卻一在所述工件壁另一側上與所述各個被加熱的殼體表面區域相對置的殼體表面區域。