[發明專利]曝光裝置、曝光方法及器件制造方法

有效

• 申請號: 200980117085.9
• 申請日: 2009-05-13
• 公開（公告）號: CN102047182A
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發明（設計）人: 金谷有步
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種曝光裝置，該裝置包括：

可移動體，所述可移動體保持物體并且大體上沿預定平面移動；

液體供應裝置，所述液體供應裝置在包括所述物體的表面在內的、所述可移動體的安裝了所述物體的表面上供應液體；

包括光學系統的圖案生成裝置，所述圖案生成裝置使液體供應到與所述可移動體的所述表面形成的空間中，經由所述光學系統和所述液體在所述物體上照射能量束，并且在所述物體上形成圖案；

包括編碼器系統的測量系統，該編碼器系統具有被布置在所述可移動體的所述表面上的多個編碼器頭，所述測量系統基于所述多個編碼器頭中面對所述可移動體外與所述預定平面平行設置的光柵部的預定數量個編碼器頭的輸出，來測量所述可移動體的位置信息；以及

檢測裝置，所述檢測裝置連接到所述測量系統，并且對于所述多個編碼器頭中的至少一個，檢測光檢測部上的液體殘留信息，并且將檢測結果輸出到所述測量系統。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其中

所述測量系統還包括干涉儀系統，所述干涉儀系統至少測量所述可移動體在所述預定平面內的位置信息。

3.根據權利要求1和2中一項所述的曝光裝置，其中

所述編碼器系統基于所述預定數量個編碼器頭中除了被所述檢測裝置基于預定基準而檢測出具有液體殘留的編碼器頭之外的編碼器頭的輸出，來測量所述可移動體在所述預定平面內的位置信息。

4.根據權利要求1到3中任一項所述的曝光裝置，其中

所述檢測裝置基于所述測量系統測得的所述可移動體在所述預定平面內的位置信息，檢測通過了由所述液體形成的液浸區的編碼器頭的所述液體殘留信息。

5.根據權利要求1到4中任一項所述的曝光裝置，其中

所述檢測裝置通過在所述可移動體的表面上照射測量光束、從所述表面接收反射光并測量所述反射光的光量，來檢測所述液體殘留信息。

6.根據權利要求5所述的曝光裝置，其中

所述檢測裝置照射傾斜入射在所述可移動體的所述表面上的所述測量光束。

7.根據權利要求1到6中任一項所述的曝光裝置，其中

所述檢測裝置被設置在所述可移動體外。

8.根據權利要求7所述的曝光裝置，其中

所述檢測裝置在由所述液體形成的液浸區附近具有檢測區。

9.根據權利要求8所述的曝光裝置，其中

所述檢測區圍繞所述液浸區的周邊。

10.根據權利要求1到9中任一項所述的曝光裝置，其中

所述檢測裝置被設置在所述多個編碼器頭中的每一個中。

11.根據權利要求10所述的曝光裝置，其中

所述檢測裝置在所述編碼器頭上具有檢測區。

12.根據權利要求1到11中任一項所述的曝光裝置，其中

所述多個編碼器頭包括測量方向分別為第一和第二方向的第一和第二頭，所述第一和第二方向在所述預定平面中彼此正交，藉此

所述編碼器系統基于包括所述第一和第二頭的至少三個編碼器頭的輸出，來測量所述可移動體在所述預定平面內的位置信息。

13.根據權利要求12所述的曝光裝置，其中

所述光柵部包括第一衍射光柵和第二衍射光柵，所述第一衍射光柵覆蓋所述第一頭可面對的范圍，且周期方向為所述第一方向，所述第二衍射光柵覆蓋所述第二頭可面對的范圍，且周期方向為所述第二方向。

14.根據權利要求12和13中一項所述的曝光裝置，其中

所述光柵部包括二維光柵，所述二維光柵覆蓋所述第一和第二頭可面對的范圍，且周期方向為所述第一和第二方向。

15.根據權利要求1到14中任一項所述的曝光裝置，其中

所述多個編碼器頭包括二維頭，所述二維頭的測量方向為第一和第二方向二者，所述第一和第二方向在所述預定平面中彼此正交，藉此

所述編碼器系統基于至少兩個所述二維頭的輸出來測量所述可移動體在所述預定平面內的位置信息。

16.根據權利要求15所述的曝光裝置，其中

所述光柵部包括二維光柵，所述二維光柵覆蓋所述兩維頭可面對的范圍，且周期方向為所述第一和第二方向。