[發(fā)明專利]用于清洗焊炬的裝置和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980116912.2 | 申請日: | 2009-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN102026769A | 公開(公告)日: | 2011-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 哈拉爾德·朗熱德爾;埃里克·埃格爾澤德;威廉·奧勒;曼弗雷德·布魯克納 | 申請(專利權(quán))人: | 弗羅紐斯國際有限公司 |
| 主分類號: | B23K9/32 | 分類號: | B23K9/32;B08B7/00 |
| 代理公司: | 北京金思港知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11349 | 代理人: | 邵毓琴;馬如 |
| 地址: | 奧地利*** | 國省代碼: | 奧地利;AT |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 清洗 裝置 方法 | ||
1.一種用于清洗焊炬(5)的清洗裝置(1),包括用于插入所述焊炬(5)的至少兩個線圈(4,11)和開孔(3),用于對所述焊炬(5)進(jìn)行電磁清洗;與所述線圈(4,11)連接在一起的供電設(shè)備(7);以及,任選地,用于向所述焊炬(5)的末端施加清洗流體的設(shè)備,其中,優(yōu)選地,所有組件都布置在同一外殼(2)內(nèi)并且都由控制設(shè)備(8)控制,其特征在于,為了清洗所述焊炬(5),能夠借助所述供電設(shè)備(7)彼此獨(dú)立地為所述線圈(4,11)供電,并且設(shè)置冷卻設(shè)備(14),用于冷卻所述線圈(4,11)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置(1),其特征在于,所述線圈(4,11)經(jīng)由插入的開關(guān)元件與所述供電設(shè)備(7)的一個或多個電容器(12)連接在一起。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置(1),其特征在于,所述電容器(12)直接連接至抗短路變壓器(13)的輸出。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的清洗裝置(1),其特征在于,所述冷卻設(shè)備(14)布置在所述線圈(4,11)之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的清洗裝置(1),其特征在于,所述冷卻設(shè)備(14)集成在所述線圈(4,11)的至少其中一個之內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的清洗裝置(1),其特征在于,所述冷卻設(shè)備(14)由冷卻擋板(15)或者特別地由熱管形成,所述冷卻擋板(15)或者熱管與所述外殼(2)連接在一起。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的清洗裝置(1),其特征在于,為所述線圈(4,11)的至少其中一個裝配至少一個溫度傳感器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的清洗裝置(1),其特征在于,基本上閉合所述外殼(2),用于屏蔽由所述線圈(4,11)產(chǎn)生的電磁場(16,17)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的清洗裝置(1),其特征在于,所述外殼(2)不需要加強(qiáng)的冷卻以及冷卻開孔,并且密封所述外殼(2)從而防止污染物進(jìn)入所述外殼(2)的內(nèi)部。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的清洗裝置(1),其特征在于,所述線圈(4,11)包括額外的磁性擋板,用于對磁場進(jìn)行選擇性的集中、增強(qiáng)以及任選的均勻化。
11.一種用于清洗焊炬(5)的方法,包括將所述焊炬(5)的末端暴露至由至少兩個線圈(4,11)產(chǎn)生的電磁場(16)中,用于非接觸地移除污染物,其中,在清洗之前,將清洗流體任選地施加在所述焊炬(5)的末端,其特征在于,在為至少一個另外的線圈(11)供電后,為用于產(chǎn)生電磁場(16)的第一線圈(4)供電。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,在保持對至少一個另外的線圈(11)供電的同時,為所述第一線圈(4)供電。
13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的方法,其特征在于,在對至少一個另外的線圈(11)供電之后,為所述第一線圈(4)供電1至3秒,特別是1.5秒。
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