[發(fā)明專利]用于局部控制扁平物體的支撐的方法和系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980116898.6
• 申請(qǐng)日: 2009-03-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102026560A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-04-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 希勒·萊克曼;奧代德·耶霍舒亞·萊希特;奧代德·漢堡哲;宇弗·雅索;波阿斯·尼史瑞;阿里·哈爾尼克;艾拉·蘇達(dá)科維奇;史恩·萊維
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 科福羅有限公司
• 主分類號(hào): A47B37/00
• 分類號(hào): A47B37/00
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 曾旻輝;何沖

1.用于支撐基本扁平的物體的非接觸式支撐平臺(tái)系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：

具有多個(gè)第一壓力口和多個(gè)第一真空口的平臺(tái)，所述多個(gè)第一壓力口和多個(gè)第一真空口用于產(chǎn)生流體墊以將所述物體支撐在與所述平臺(tái)相隔一定距離的位置；

位于所述平臺(tái)的預(yù)定區(qū)域的多個(gè)第二壓力口，該多個(gè)第二壓力口用于增加預(yù)定區(qū)域處物體與平臺(tái)之間的距離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述預(yù)定區(qū)域?yàn)檫吘墔^(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述邊緣區(qū)域被設(shè)置為支撐與物體運(yùn)動(dòng)方向基本垂直的物體邊緣。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述邊緣區(qū)域被設(shè)置為支撐所述物體的側(cè)邊緣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述邊預(yù)定區(qū)域?yàn)楣战菂^(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述系統(tǒng)還在所述預(yù)定區(qū)域設(shè)有多個(gè)第二真空口。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述多個(gè)第一壓力口和所述多個(gè)第二壓力口包括多個(gè)噴嘴。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于：所述多個(gè)噴嘴中的每個(gè)噴嘴包括具有流量限制鰭片的管道。

9.一種用于運(yùn)輸基本扁平的物體的方法，該方法包括：

提供用于支撐基本扁平的物體的非接觸式支撐平臺(tái)系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括具有多個(gè)第一壓力口和多個(gè)第一真空口的平臺(tái)，所述多個(gè)第一壓力口和多個(gè)第一真空口用于產(chǎn)生流體墊來(lái)將物體支撐于與平臺(tái)相隔一定距離的位置，所述系統(tǒng)還包括位于所述平臺(tái)的預(yù)定區(qū)域的多個(gè)第二壓力口；

通過(guò)從所述多個(gè)第二壓力口施加壓力來(lái)增加所述預(yù)定區(qū)域處物體與平臺(tái)之間的距離。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于：所述預(yù)定區(qū)域?yàn)檫吘墔^(qū)域。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于：包括給所述多個(gè)第二壓力口提供比提供給所述多個(gè)第一壓力口的壓力更大的壓力。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于：當(dāng)所述物體的邊緣被支撐于所述預(yù)定區(qū)域時(shí)，進(jìn)行上述給所述多個(gè)第二壓力口提供比提供給所述多個(gè)第一壓力口的壓力更大的壓力的步驟。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于：支撐所述物體的邊緣，該邊緣與物體的運(yùn)動(dòng)方向基本垂直。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于：支撐所述物體的側(cè)邊緣。