[發明專利]成像光學系統

無效

• 申請號: 200980115665.4
• 申請日: 2009-06-10
• 公開（公告）號: CN102016677A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 德弘節夫;原明子
• 申請（專利權）人: 柯尼卡美能達精密光學株式會社
• 主分類號: G02B7/02
• 分類號: G02B7/02;G02B1/10;G02B5/28
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 賈成功

1.一種成像光學系統，其特征在于，其為一邊介由間隔件一邊將多個成像用透鏡層疊了的成像光學系統，所述成像用透鏡部在玻璃基板上形成了固化性樹脂制的透鏡部，

在相互相鄰的所述成像用透鏡間所述透鏡部彼此存在呈凹狀的部位，在配置于該部位的所述間隔件上形成有IR阻斷涂層。

2.如權利要求1所述的成像光學系統，其特征在于，

對所述間隔件的表背兩面分別形成有所述IR阻斷涂層，

形成于所述間隔件的一側的面的IR阻斷涂層的總膜厚r1與形成于所述間隔件的另一側的面的IR阻斷涂層的總膜厚r2的總膜厚比率r滿足式(1)的條件：

0.9≤r(＝r1/r2)≤1.1...(1)。

3.如權利要求1或2所述的成像光學系統，其特征在于，

對所述間隔件的表背兩面分別形成有所述IR阻斷涂層，

所述IR阻斷涂層為將由低折射率材料構成的低折射率層A和由高折射率材料構成的高折射率層B交替層疊了多層的交替多層膜，

形成于所述間隔件的一側的面的IR阻斷涂層的低折射率層A1的總膜厚r(A1)、與形成于所述間隔件的另一側的面的IR阻斷涂層的低折射率層A2的總膜厚r(A2)的總膜厚比率r(A)滿足式(2)的條件，并且，形成于所述間隔件的一側的面的IR阻斷涂層的高折射率層B1的總膜厚r(B1)與形成于所述間隔件的另一側的面的IR阻斷涂層的高折射率層B2的總膜厚r(B2)的總膜厚比率r(B)滿足式(3)的條件：

0.9≤r(A)(＝r(A1)/r(A2))≤1.1...(2)

0.9≤r(B)(＝r(B1)/r(B2))≤1.1...(3)。

4.如權利要求1～3中的任一項所述的成像光學系統，其特征在于，

所述固化性樹脂為光固化性樹脂，

所述光固化性樹脂為丙烯酸類樹脂或環氧樹脂。