[發(fā)明專利]防反射膜和具備防反射膜的光學(xué)元件、壓模和壓模的制造方法以及防反射膜的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980114355.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-06-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102016651A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林秀和;田口登喜生;藤井曉義;山田信明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 夏普株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02B1/11 | 分類號(hào): | G02B1/11;B32B3/10;B32B7/02 |
| 代理公司: | 北京市隆安律師事務(wù)所 11323 | 代理人: | 權(quán)鮮枝 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反射 具備 光學(xué) 元件 制造 方法 以及 | ||
1.一種防反射膜,
具有第1表面形狀或者使上述第1表面形狀相對(duì)于膜面翻轉(zhuǎn)而得到的第2表面形狀,上述第1表面形狀具有從膜法線方向看時(shí)二維大小為1μm以上100μm不到的多個(gè)第1凸部和二維大小為10nm以上500nm不到的多個(gè)第2凸部,上述多個(gè)第2凸部形成在上述多個(gè)第1凸部上和上述多個(gè)第1凸部之間,上述多個(gè)第1凸部的表面相對(duì)于膜面的升角為約90°以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防反射膜,
上述多個(gè)第2凸部含有大致圓錐形的凸部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或者2所述的防反射膜,
上述多個(gè)第2凸部含有不規(guī)則排列的凸部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的防反射膜,
由光固化性樹(shù)脂形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中的任一項(xiàng)所述的防反射膜,
霧度值為8.5以上。
6.一種光學(xué)元件,
具有權(quán)利要求1~5中的任一項(xiàng)所述的防反射膜。
7.一種壓模,
具有第1表面形狀或者使上述第1表面形狀相對(duì)于表面翻轉(zhuǎn)而得到的第2表面形狀,上述第1表面形狀具有從表面法線方向看時(shí)二維大小為1μm以上100μm不到的多個(gè)第1凸部和二維大小為10nm以上500nm不到的多個(gè)第2凸部,上述多個(gè)第2凸部形成在上述多個(gè)第1凸部上和上述多個(gè)第1凸部之間,上述多個(gè)第1凸部的表面相對(duì)于膜面的升角為約90°以上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的壓模,
具備具有與上述第2表面形狀實(shí)質(zhì)相同的表面形狀的陽(yáng)極氧化鋁層。
9.一種壓模的制造方法,是權(quán)利要求7所述的壓模的制造方法,包含:
(a)準(zhǔn)備Al的含有量為99.0質(zhì)量%以下的Al基材的工序;
(b)通過(guò)對(duì)上述Al基材局部地進(jìn)行陽(yáng)極氧化來(lái)形成具有多個(gè)細(xì)微凹部的多孔氧化鋁層的工序;以及
(c)通過(guò)使上述多孔氧化鋁層與氧化鋁的蝕刻劑接觸來(lái)擴(kuò)大多孔氧化鋁層的多個(gè)細(xì)微凹部的工序。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的壓模的制造方法,
通過(guò)交替地進(jìn)行多次上述工序(b)和工序(c),在多孔氧化鋁層中形成分別具有臺(tái)階狀的側(cè)面的多個(gè)細(xì)微凹部。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或者10所述的壓模的制造方法,
上述Al基材含有從包括Mn、Mg以及Fe的組中選出的至少一種元素。
12.一種防反射膜的制造方法,包含:
準(zhǔn)備權(quán)利要求7或者8所述的壓模和被加工物的工序;和
利用上述壓模將上述第2表面形狀轉(zhuǎn)印到上述被加工物的表面的工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的防反射膜的制造方法,包含以下工序:
在上述壓模與上述被加工物的上述表面之間給予光固化性樹(shù)脂的狀態(tài)下,使上述光固化性樹(shù)脂固化,由此在上述被加工物的上述表面形成轉(zhuǎn)印了上述第2表面形狀而得到的光固化性樹(shù)脂層。
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