[發明專利]激光曝光方法、光致抗蝕劑層加工方法和用于制造圖案成形品的方法

無效

• 申請號: 200980113981.8
• 申請日: 2009-03-23
• 公開（公告）號: CN102016721A
• 公開（公告）日: 2011-04-13
• 發明（設計）人: 宇佐美由久
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 柳春琦

技術領域

本發明涉及在對多個分開的物體執行聚焦伺服控制的同時用激光束照射各個物體的激光曝光方法，光致抗蝕劑層加工方法，以及用于制造圖案成形品(pattemed?casting)的方法。

背景技術

通常，已知有一種技術，通過用激光束照射其上涂敷有光致抗蝕劑層的工件并隨后通過顯影工藝移除照射部分，以在工件(物體)的表面上形成凹凸。如果在加工正在旋轉(自轉)的工件時執行此技術，則對旋轉工件更接近其旋轉中心的部分進行加工將花費更多的時間，因為旋轉工件的轉速朝向旋轉中心變慢，并且考慮到激光輸出量和轉速之間的關聯，將難以精確地加工工件更接近旋轉中心的部分。

為了解決這些問題，本申請所指發明人考慮如下方法：通過使多個工件圍繞工件支撐臺的旋轉中心公轉以單個步驟加工工件，在所述工件支撐臺上，將工件在工件不與支撐臺的旋轉中心交迭的位置排列于支撐臺的圓周方向上。然而，采用此方法，將無法適當地進行在加工每個工件的過程中執行的聚焦伺服控制，這是由每個工件表面的反射率和工件之間(支撐臺的)區域的反射率的不同造成的。

作為與上述聚焦伺服控制相關的傳統技術，已知一種在用于測試的信息記錄介質(在下文中稱為“試樣”)中記錄或從中再生(retrieve)信息的技術，但是這不是用于在工件的表面上形成凹凸的技術(見JP?3-134832A)。更具體而言，在此技術中，將多個試樣在工件不與轉臺的旋轉中心交迭的位置排列在轉臺的圓周方向上，并且當測試頭(head)對每個試樣進行記錄或再生的操作時執行基于反射光的聚焦伺服控制，同時在測試頭經過兩個試樣之間時在不使用反射光的條件下使包含在測試頭中的物鏡在預定的聚焦控制容許范圍內上下往復移動。因此，在測試頭通過了兩個試樣之間并到達其中的第二個試樣后，物鏡已經處于聚焦控制容許范圍內，并因而可以對第二個試樣適當地執行聚焦伺服控制。

然而，在此傳統技術中，因為當物鏡在兩個試樣之間時使其上下往復移動，物鏡將有可能在到達第二試樣時從正常位置較大地偏離，視情況而定；在此情況下，不利地，在聚焦伺服控制在此情況下變得穩定之前需要經過額外的時間。

因此，適宜的是提供可以使聚焦伺服控制更快地穩定的激光曝光方法、光致抗蝕劑層加工方法和用于圖案成形品的制造方法。

發明內容

在本發明的一個方面，提供了一種使用激光束將多個物體曝光的激光曝光方法，其中使支撐臺和激光束照射裝置沿所述多個物體的排列方向彼此相對移動，所述支撐臺支撐在其上間隔開的所述多個物體，所述激光束照射裝置在執行基于反射光使其光學部件移動的聚焦伺服控制的同時使用激光束照射所述物體。該方法包括：控制開始步驟，即，在由所述激光束照射裝置發射的激光束已經到達物體上的聚焦開始位置的條件下，開始所述聚焦伺服控制；控制停止步驟，即，在由所述激光束照射裝置發射的激光束已經到達所述物體上的聚焦停止位置的條件下，停止所述聚焦伺服控制；和保持步驟，即，將所述光學部件的位置保持在預定的位置，保持時間從由所述激光束照射裝置發射的激光束到達所述物體上的聚焦停止位置時開始，直至由所述激光束照射裝置發射的激光束到達下一個物體上的聚焦開始位置為止。

在本發明的這種方式中，當相對于物體移動的激光束到達所述物體上的聚焦開始位置時，開始聚焦伺服控制。更具體而言，使光學部件基于從物體反射的反射光移動，并且將從激光束照射裝置發射的激光束聚焦在物體中特定的位置。當激光束到達物體上的聚焦停止位置時，停止聚焦伺服控制，并且將光學部件的位置保持在預定的位置。因此，當激光束到達下一個物體上的聚焦開始位置時，再次開始聚焦伺服控制，并且使光學部件自預定的位置開始移動。因此，如果將放置在支撐臺上的多個物體的表面位置設置為相對于預定的位置處于大體相同的位置，則當使激光束從當前聚焦的物體移動到下一個物體時，光學部件相對于下一個物體的位置將被保持在接近正常位置(相當于將在后描述的焦點(in-focus)位置)的位置，從而可以使聚焦伺服控制更快地穩定。

在以上構造中，任選地，可以將聚焦開始位置和聚焦停止位置設置在將激光束全部照射于物體上的位置。

以此特征，因為當激光束處于聚焦開始位置和聚焦停止位置時，將全部激光束照射于物體，因此可以防止在激光束部分地偏離物體照射的情況下導致的潛在風險，比如無法恰當地執行聚焦伺服控制。

在以上構造中，可以配置為在保持步驟中，持續從激光束照射裝置連續地或間斷地發射激光束。

以此特征，與在保持步驟過程中停止激光束的發射的方法相比，當對下一個物體的聚焦伺服控制開始時可以更穩定地發射激光束。