[發(fā)明專利]在不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔上使用的剝離膜以及未加工轉(zhuǎn)印箔

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980113727.8
• 申請(qǐng)日: 2009-07-31
• 公開（公告）號(hào): CN101998908A
• 公開（公告）日: 2011-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 藤井憲太郎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日本寫真印刷株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B44C1/17
• 分類號(hào): B44C1/17
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 胡曉萍

1.一種在不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔上使用的剝離膜，該剝離膜使用于在剝離膜上全面地設(shè)置有剝離層并在該剝離層上至少層疊有圖案層而成的未加工轉(zhuǎn)印箔上，其特征在于，

在對(duì)應(yīng)于所述未加工轉(zhuǎn)印箔的切斷位置的所述剝離膜的剝離面上，實(shí)施有帶狀的由表面變質(zhì)而成的易粘接性處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔上使用的剝離膜，其中，所述剝離膜在基材膜上全面地設(shè)置有脫模層，在該脫模層表面實(shí)施有所述易粘接性處理。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的在不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔上使用的剝離膜，其中，所述易粘接性處理為火焰處理、電暈處理、等離子處理、UV處理、EB處理、激光處理、溶劑或藥劑處理中的任何一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的在不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔上使用的剝離膜，其中，在所述剝離膜上實(shí)施有易粘接性處理的處理區(qū)域和未實(shí)施易粘接性處理的非處理區(qū)域設(shè)置有可進(jìn)行識(shí)別的外觀差異。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的在不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔上使用的剝離膜，其中，所述剝離膜含有為通過所述易粘接性處理產(chǎn)生所述外觀差異的添加物。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的在不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔上使用的剝離膜，其中，所述外觀差異為由顏色的類別而產(chǎn)生的差異、光澤的差異、明亮度差異、色品度差異、或者這些差異的組合。

7.一種不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔，該未加工轉(zhuǎn)印箔是在剝離膜上全面地設(shè)置有剝離層并在該剝離層上至少層疊有圖案層而成的，其特征在于，

在對(duì)應(yīng)于所述未加工轉(zhuǎn)印箔的切斷位置的所述剝離膜的剝離面上，實(shí)施有帶狀的由表面變質(zhì)而成的易粘接性處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔，其中，所述剝離膜在基材膜上全面地設(shè)置有脫模層，在該脫模層表面實(shí)施有所述易粘接性處理。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔，其中，所述易粘接性處理為火焰處理、電暈處理、等離子處理、UV處理、EB處理、激光處理、溶劑或藥劑處理中的任何一種。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔，其中，在所述剝離膜上實(shí)施有易粘接性處理的處理區(qū)域和未實(shí)施易粘接性處理的非處理區(qū)域設(shè)置有可進(jìn)行識(shí)別的外觀差異。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔，其中，所述剝離膜含有為通過所述易粘接性處理產(chǎn)生所述外觀差異的添加物。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的不發(fā)生箔剝離的未加工轉(zhuǎn)印箔，其中，所述外觀差異為由顏色的類別而產(chǎn)生的差異、光澤的差異、明亮度差異、色品度差異、或者這些差異的組合。